Иондук бомбалоонун бирдей эместиги
Кургакоюуадатта физикалык жана химиялык таасирлерди айкалыштырган процесс болуп саналат, мында иондук бомбалоо маанилүү физикалык оюу ыкмасы болуп саналат.оюп түшүрүү процесси, иондордун түшүү бурчу жана энергиянын бөлүштүрүлүшү бирдей эмес болушу мүмкүн.
Эгерде капталдагы ар кандай позицияларда иондордун түшүү бурчу ар башка болсо, анда капталдагы иондордун оюу эффектиси да ар башка болот. Иондордун түшүү бурчтары чоңураак болгон аймактарда иондордун капталдагы оюу эффектиси күчтүүрөөк болот, бул бул аймактагы капталдын көбүрөөк оюлушуна алып келет, бул капталдын ийилишине алып келет. Мындан тышкары, ион энергиясынын бирдей эмес бөлүштүрүлүшү да ушул сыяктуу эффекттерди жаратат. Энергиясы жогору иондор материалдарды натыйжалуураак алып салышы мүмкүн, бул ыраатсыздыкка алып келет.оюукаптал дубалдын ар кандай абалдагы градустары, бул өз кезегинде каптал дубалдын ийилишине алып келет.
Фоторезисттин таасири
Фоторезист кургак оюуда маска ролун аткарат, оюунун кажети жок жерлерди коргойт. Бирок, фоторезистке плазмалык бомбалоонун жана оюу процессиндеги химиялык реакциялардын таасири да тиет жана анын иштеши өзгөрүшү мүмкүн.
Эгерде фоторезисттин калыңдыгы бирдей эмес болсо, оюу процессинде керектөө ылдамдыгы туруксуз болсо же фоторезист менен субстраттын ортосундагы адгезия ар кайсы жерлерде ар кандай болсо, бул оюу процессинде каптал дубалдардын бирдей эмес корголушуна алып келиши мүмкүн. Мисалы, фоторезист жукараак же адгезиясы алсызыраак жерлер астындагы материалды оңой оюп, каптал дубалдардын бул жерлерде ийилишине алып келиши мүмкүн.
Субстрат материалынын касиеттериндеги айырмачылыктар
Оюлган субстрат материалынын өзү ар кандай касиеттерге ээ болушу мүмкүн, мисалы, ар кандай аймактардагы кристаллдардын багыты жана кошулмалардын концентрациясы. Бул айырмачылыктар оюу ылдамдыгына жана оюунун тандалмалуулугуна таасир этет.
Мисалы, кристаллдык кремнийде кремний атомдорунун ар кандай кристаллдык багыттардагы жайгашуусу ар башка болот жана алардын реактивдүүлүгү жана оюу газы менен оюу ылдамдыгы да ар башка болот. Оюу процессинде материалдык касиеттердин айырмачылыктарынан улам келип чыккан ар кандай оюу ылдамдыктары каптал дубалдардын оюу тереңдигин ар кайсы жерлерде туруксуз кылып, акыры каптал дубалдын ийилишине алып келет.
Жабдууларга байланыштуу факторлор
Оёочу жабдуулардын иштеши жана абалы да оёонун натыйжаларына маанилүү таасирин тийгизет. Мисалы, реакция камерасында плазманын бирдей эмес бөлүштүрүлүшү жана электроддун бирдей эмес эскириши сыяктуу көйгөйлөр, оёо учурунда пластинанын бетинде ион тыгыздыгы жана энергия сыяктуу параметрлердин бирдей эмес бөлүштүрүлүшүнө алып келиши мүмкүн.
Мындан тышкары, жабдуулардын температурасынын бирдей эмес көзөмөлдөнүшү жана газ агымынын бир аз өзгөрүшү да оюунун бирдейлигине таасир этип, каптал дубалдын ийилишине алып келиши мүмкүн.
Жарыяланган убактысы: 2024-жылдын 3-декабры