Неоднорідність іонного бомбардування
Сухийтравленнязазвичай це процес, який поєднує фізичні та хімічні ефекти, в якому іонне бомбардування є важливим методом фізичного травлення. Під часпроцес травлення, кут падіння та розподіл енергії іонів можуть бути нерівномірними.
Якщо кут падіння іонів різний у різних положеннях на бічній стінці, то травильний ефект іонів на бічну стінку також буде різним. У ділянках з більшими кутами падіння іонів травильний ефект іонів на бічну стінку сильніший, що призведе до більшого травлення бічної стінки в цій зоні та її вигину. Крім того, нерівномірний розподіл енергії іонів також призведе до подібних ефектів. Іони з вищою енергією можуть ефективніше видаляти матеріали, що призводить до нерівномірної обробки.травленняградусів бокової стінки в різних положеннях, що, у свою чергу, призводить до її вигину.
Вплив фоторезисту
Фоторезист відіграє роль маски під час сухого травлення, захищаючи ділянки, які не потребують травлення. Однак на фоторезист також впливає плазмове бомбардування та хімічні реакції під час процесу травлення, і його характеристики можуть змінюватися.
Якщо товщина фоторезисту нерівномірна, швидкість витрати під час процесу травлення нестабільна або адгезія між фоторезистом та підкладкою різна в різних місцях, це може призвести до нерівномірного захисту бічних стінок під час процесу травлення. Наприклад, ділянки з тоншим фоторезистом або слабшою адгезією можуть зробити нижній матеріал легшим для травлення, що призведе до вигину бічних стінок у цих місцях.
Відмінності у властивостях матеріалу підкладки
Сам матеріал протравленої підкладки може мати різні властивості, такі як різна орієнтація кристалів та концентрація легуючих домішок у різних областях. Ці відмінності впливатимуть на швидкість травлення та селективність травлення.
Наприклад, у кристалічному кремнії розташування атомів кремнію в різних кристалічних орієнтаціях різне, а їхня реакційна здатність та швидкість травлення травильним газом також будуть різними. Під час процесу травлення різні швидкості травлення, спричинені відмінностями у властивостях матеріалу, призведуть до нерівномірної глибини травлення бічних стінок у різних місцях, що зрештою призведе до їх вигину.
Фактори, пов'язані з обладнанням
Продуктивність та стан обладнання для травлення також мають важливий вплив на результати травлення. Наприклад, такі проблеми, як нерівномірний розподіл плазми в реакційній камері та нерівномірний знос електродів, можуть призвести до нерівномірного розподілу таких параметрів, як щільність іонів та енергія, на поверхні пластини під час травлення.
Крім того, нерівномірний контроль температури обладнання та незначні коливання потоку газу також можуть впливати на рівномірність травлення, що призводить до вигину бічних стінок.
Час публікації: 03 грудня 2024 р.