منتجات الطاقة الشمسية الكهروضوئية

النقاء، بنية المجهر الإلكتروني الماسح، تحليل السماكةطلاء كربيد السيليكون

تصل نقاوة طبقات كربيد السيليكون (SiC) على الجرافيت باستخدام الترسيب الكيميائي للبخار (CVD) إلى 99.9995%. بنيتها مكعبة مركزية الوجوه (fcc). تُظهر بيانات حيود الأشعة السينية (XRD) (الشكل 1) أن طبقات كربيد السيليكون المطلية على الجرافيت موجهة في الاتجاه (111)، مما يدل على جودتها البلورية العالية. كما يُظهر الشكل 2 أن سُمك طبقة كربيد السيليكون متجانس للغاية.

الشكل 2: سمك موحد لأغشية كربيد السيليكون (SiC) - صور مجهرية إلكترونية ماسحة (SEM) وصور حيود الأشعة السينية (XRD) لغشاء بيتا-كربيد السيليكون على الجرافيت

بيانات المجهر الإلكتروني الماسح لغشاء السيليكون كاربيد الرقيق المترسب كيميائياً من البخار، حجم البلورة 2-1 ميكرومتر

يتميز التركيب البلوري لفيلم كربيد السيليكون المُرسب كيميائياً من البخار (CVD) ببنية مكعبة مركزية الوجوه، ويقترب اتجاه نمو الفيلم من 100%.

مطلي بكربيد السيليكون (SiC)تُعدّ القاعدة أفضل قاعدة لتصنيع طبقات السيليكون أحادي البلورة وطبقات نتريد الغاليوم، وهي المكوّن الأساسي لفرن الترسيب الطبقي. تُعتبر القاعدة ملحقًا رئيسيًا لإنتاج السيليكون أحادي البلورة المستخدم في الدوائر المتكاملة الكبيرة. تتميز القاعدة بنقائها العالي، ومقاومتها للحرارة العالية، ومقاومتها للتآكل، وإحكامها الجيد للهواء، وغيرها من الخصائص الممتازة.

تطبيق المنتج واستخدامه

طلاء أساسه الجرافيت لنمو السيليكون أحادي البلورة. مناسب لأجهزة Aixtron، إلخ. سمك الطلاء: 90 ~ 150 ميكرومتر. قطر حفرة الرقاقة 55 ملم.