De vigtigste funktioner isiliciumcarbidbådstøtte og kvartsbådstøtte er de samme.SiliciumkarbidbådStøtten har fremragende ydeevne, men er høj i pris. Den udgør et alternativ til kvartsbådsstøtten i batteribehandlingsudstyr med barske arbejdsforhold (såsom LPCVD-udstyr og bor-diffusionsudstyr). I batteribehandlingsudstyr med almindelige arbejdsforhold bliver siliciumcarbid og kvartsbådsstøtter på grund af prisforhold sameksisterende og konkurrerende kategorier.
① Substitutionsforhold i LPCVD og bor-diffusionsudstyr
LPCVD-udstyr bruges til oxidation af battericelletunneler og til fremstilling af doteret polysiliciumlag. Arbejdsprincip:
Under lavtryksatmosfære, kombineret med passende temperatur, opnås kemisk reaktion og dannelse af aflejringsfilm for at fremstille et ultratyndt tunneloxidlag og en polysiliciumfilm. I tunneloxidationsprocessen og fremstillingsprocessen for dopet polysiliciumlag har bådbæreren en høj arbejdstemperatur, og en siliciumfilm vil blive aflejret på overfladen. Kvarts' termiske udvidelseskoefficient er ret forskellig fra siliciums. Når den anvendes i ovenstående proces, er det nødvendigt regelmæssigt at bejdse og fjerne det silicium, der er aflejret på overfladen, for at forhindre, at kvartsbådbæreren går i stykker på grund af termisk udvidelse og sammentrækning på grund af den forskellige termiske udvidelseskoefficient fra silicium. På grund af hyppig bejdsning og lav højtemperaturstyrke har kvartsbådbæreren en kort levetid og udskiftes ofte i tunneloxidationsprocessen og fremstillingsprocessen for dopet polysiliciumlag, hvilket øger produktionsomkostningerne for battericellen betydeligt. Udvidelseskoefficienten forsiliciumcarbider tæt på siliciums. Den integreredesiliciumcarbidbådHolderen kræver ikke bejdsning i tunneloxidationen og forberedelsen af det doterede polysiliciumlag. Den har høj højtemperaturstyrke og lang levetid. Det er et godt alternativ til kvartsbådholderen.
Borekspansionsudstyr bruges hovedsageligt til processen med at dotere borelementer på N-type siliciumwafersubstratet i battericellen for at forberede P-type emitteren til at danne en PN-forbindelse. Arbejdsprincippet er at realisere kemisk reaktion og dannelse af molekylær aflejringsfilm i en atmosfære med høj temperatur. Efter at filmen er dannet, kan den diffunderes ved højtemperaturopvarmning for at realisere doteringsfunktionen på siliciumwaferoverfladen. På grund af borekspansionsudstyrets høje arbejdstemperatur har kvartsbådholderen lav højtemperaturstyrke og en kort levetid i borekspansionsudstyret. Den integreredesiliciumcarbidbådHolderen har høj højtemperaturstyrke og er et godt alternativ til kvartsbådholderen i borekspansionsprocessen.
② Substitutionsforhold i andet procesudstyr
SiC-bådstøtter har en begrænset produktionskapacitet og fremragende ydeevne. Deres pris er generelt højere end kvartsbådstøtter. Under generelle driftsforhold for celleforarbejdningsudstyr er forskellen i levetid mellem SiC-bådstøtter og kvartsbådstøtter lille. Downstream-kunder sammenligner og vælger primært mellem pris og ydeevne baseret på deres egne processer og behov. SiC-bådstøtter og kvartsbådstøtter er blevet sameksisterende og konkurrencedygtige. Bruttoavancen for SiC-bådstøtter er dog relativt høj i øjeblikket. Med faldet i produktionsomkostningerne for SiC-bådstøtter, hvis salgsprisen på SiC-bådstøtter falder aktivt, vil det også udgøre en større konkurrenceevne for kvartsbådstøtter.
Brugsforhold
Celleteknologiruten er primært PERC-teknologi og TOPCon-teknologi. Markedsandelen for PERC-teknologi er 88%, og markedsandelen for TOPCon-teknologi er 8,3%. Den samlede markedsandel for de to er 96,30%.
Som vist på figuren nedenfor:
I PERC-teknologi kræves bådunderstøtninger til frontdiffusion og udglødningsprocesser. I TOPCon-teknologi kræves bådunderstøtninger til frontdiffusion, LPCVD, bagudfosfordiffusion og udglødningsprocesser. I øjeblikket anvendes siliciumcarbid-bådunderstøtninger primært i LPCVD-processen i TOPCon-teknologien, og deres anvendelse i borniffusionsprocessen er hovedsageligt blevet verificeret.
Figur Anvendelse af bådunderstøtninger i celleforarbejdningsprocessen
Bemærk: Efter for- og bagbelægningen af PERC- og TOPCon-teknologierne er der stadig forbindelser såsom serigrafi, sintring samt testning og sortering, som ikke involverer brug af bådunderstøtninger og ikke er anført i ovenstående figur.
Opslagstidspunkt: 15. oktober 2024