ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲದ ಅನುಕೂಲಗಳು

ಮುಖ್ಯ ಕಾರ್ಯಗಳುಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ದೋಣಿಆಧಾರ ಮತ್ತು ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ದೋಣಿ ಆಧಾರ ಒಂದೇ ಆಗಿರುತ್ತವೆ.ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ದೋಣಿಬೆಂಬಲವು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಆದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೆಲೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಕಠಿಣ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳೊಂದಿಗೆ (LPCVD ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಬೋರಾನ್ ಪ್ರಸರಣ ಉಪಕರಣಗಳಂತಹ) ಬ್ಯಾಟರಿ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿ ಇದು ಸ್ಫಟಿಕ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲದೊಂದಿಗೆ ಪರ್ಯಾಯ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳೊಂದಿಗೆ ಬ್ಯಾಟರಿ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿ, ಬೆಲೆ ಸಂಬಂಧಗಳಿಂದಾಗಿ, ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲವು ಸಹಬಾಳ್ವೆ ಮತ್ತು ಸ್ಪರ್ಧಾತ್ಮಕ ವರ್ಗಗಳಾಗುತ್ತವೆ.

① LPCVD ಮತ್ತು ಬೋರಾನ್ ಪ್ರಸರಣ ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿ ಬದಲಿ ಸಂಬಂಧ

ಬ್ಯಾಟರಿ ಸೆಲ್ ಟನಲಿಂಗ್ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಮತ್ತು ಡೋಪ್ಡ್ ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರ ತಯಾರಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ LPCVD ಉಪಕರಣವನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕಾರ್ಯ ತತ್ವ:

ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದ ವಾತಾವರಣದಲ್ಲಿ, ಸೂಕ್ತವಾದ ತಾಪಮಾನದೊಂದಿಗೆ ಸೇರಿ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಅತಿ ತೆಳುವಾದ ಟನೆಲಿಂಗ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪದರ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಸುರಂಗ ಮಾರ್ಗದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಮತ್ತು ಡೋಪ್ಡ್ ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರದ ತಯಾರಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕೆಲಸದ ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸ್ಫಟಿಕದ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣಾ ಗುಣಾಂಕವು ಸಿಲಿಕಾನ್‌ಗಿಂತ ಸಾಕಷ್ಟು ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಮೇಲಿನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಿದಾಗ, ಸಿಲಿಕಾನ್‌ನಿಂದ ವಿಭಿನ್ನ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣಾ ಗುಣಾಂಕದಿಂದಾಗಿ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣೆ ಮತ್ತು ಸಂಕೋಚನದಿಂದಾಗಿ ಸ್ಫಟಿಕ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲವು ಮುರಿಯುವುದನ್ನು ತಡೆಯಲು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸಂಗ್ರಹವಾಗಿರುವ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಅನ್ನು ನಿಯಮಿತವಾಗಿ ಉಪ್ಪಿನಕಾಯಿ ಮಾಡುವುದು ಮತ್ತು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಅವಶ್ಯಕ. ಆಗಾಗ್ಗೆ ಉಪ್ಪಿನಕಾಯಿ ಹಾಕುವುದು ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಬಲದಿಂದಾಗಿ, ಸ್ಫಟಿಕ ದೋಣಿ ಹೋಲ್ಡರ್ ಕಡಿಮೆ ಜೀವಿತಾವಧಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸುರಂಗ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಮತ್ತು ಡೋಪ್ಡ್ ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರದ ತಯಾರಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಆಗಾಗ್ಗೆ ಬದಲಾಯಿಸಲ್ಪಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಬ್ಯಾಟರಿ ಕೋಶದ ಉತ್ಪಾದನಾ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ವಿಸ್ತರಣಾ ಗುಣಾಂಕಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ಸಿಲಿಕಾನ್‌ಗೆ ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿದೆ. ಸಂಯೋಜಿತಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ದೋಣಿಸುರಂಗದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಮತ್ತು ಡೋಪ್ಡ್ ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರ ತಯಾರಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಹೋಲ್ಡರ್‌ಗೆ ಉಪ್ಪಿನಕಾಯಿ ಹಾಕುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ. ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ದೀರ್ಘ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದು ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ದೋಣಿ ಹೋಲ್ಡರ್‌ಗೆ ಉತ್ತಮ ಪರ್ಯಾಯವಾಗಿದೆ.

ಬೋರಾನ್ ವಿಸ್ತರಣಾ ಉಪಕರಣವನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಬ್ಯಾಟರಿ ಕೋಶದ N-ಟೈಪ್ ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಬೋರಾನ್ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಡೋಪಿಂಗ್ ಮಾಡುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು P-ಟೈಪ್ ಎಮಿಟರ್ ಅನ್ನು PN ಜಂಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಸಿದ್ಧಪಡಿಸುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ವಾತಾವರಣದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆ ಮತ್ತು ಆಣ್ವಿಕ ಶೇಖರಣಾ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯನ್ನು ಅರಿತುಕೊಳ್ಳುವುದು ಕಾರ್ಯ ತತ್ವವಾಗಿದೆ. ಫಿಲ್ಮ್ ರೂಪುಗೊಂಡ ನಂತರ, ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ ಮೇಲ್ಮೈಯ ಡೋಪಿಂಗ್ ಕಾರ್ಯವನ್ನು ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಲು ಅದನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ತಾಪನದ ಮೂಲಕ ಹರಡಬಹುದು. ಬೋರಾನ್ ವಿಸ್ತರಣಾ ಉಪಕರಣದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕೆಲಸದ ತಾಪಮಾನದಿಂದಾಗಿ, ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಬೋಟ್ ಹೋಲ್ಡರ್ ಕಡಿಮೆ ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಮತ್ತು ಬೋರಾನ್ ವಿಸ್ತರಣಾ ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿ ಕಡಿಮೆ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ಸಂಯೋಜಿತಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ದೋಣಿಈ ಹೋಲ್ಡರ್ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಬೋರಾನ್ ವಿಸ್ತರಣಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಬೋಟ್ ಹೋಲ್ಡರ್‌ಗೆ ಉತ್ತಮ ಪರ್ಯಾಯವಾಗಿದೆ.

② ಇತರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿ ಬದಲಿ ಸಂಬಂಧ

SiC ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳು ಬಿಗಿಯಾದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ. ಅವುಗಳ ಬೆಲೆ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಸೆಲ್ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಉಪಕರಣಗಳ ಸಾಮಾನ್ಯ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ, SiC ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳು ಮತ್ತು ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳ ನಡುವಿನ ಸೇವಾ ಜೀವನದಲ್ಲಿ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ. ಡೌನ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಗ್ರಾಹಕರು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ತಮ್ಮದೇ ಆದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಅಗತ್ಯಗಳನ್ನು ಆಧರಿಸಿ ಬೆಲೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ನಡುವೆ ಹೋಲಿಕೆ ಮಾಡುತ್ತಾರೆ ಮತ್ತು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡುತ್ತಾರೆ. SiC ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳು ಮತ್ತು ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳು ಸಹಬಾಳ್ವೆ ಮತ್ತು ಸ್ಪರ್ಧಾತ್ಮಕವಾಗಿವೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, SiC ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳ ಒಟ್ಟು ಲಾಭಾಂಶವು ಪ್ರಸ್ತುತ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ. SiC ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳ ಉತ್ಪಾದನಾ ವೆಚ್ಚದಲ್ಲಿನ ಇಳಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ, SiC ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳ ಮಾರಾಟದ ಬೆಲೆ ಸಕ್ರಿಯವಾಗಿ ಕುಸಿದರೆ, ಅದು ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಪರ್ಧಾತ್ಮಕತೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.

ಬಳಕೆಯ ಅನುಪಾತ

ಸೆಲ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಮಾರ್ಗವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ PERC ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು TOPCon ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ. PERC ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಮಾರುಕಟ್ಟೆ ಪಾಲು 88%, ಮತ್ತು TOPCon ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಮಾರುಕಟ್ಟೆ ಪಾಲು 8.3%. ಎರಡರ ಸಂಯೋಜಿತ ಮಾರುಕಟ್ಟೆ ಪಾಲು 96.30%.

ಕೆಳಗಿನ ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ:

PERC ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಲ್ಲಿ, ಮುಂಭಾಗದ ರಂಜಕದ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಅನೀಲಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳು ಬೇಕಾಗುತ್ತವೆ. TOPCon ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಲ್ಲಿ, ಮುಂಭಾಗದ ಬೋರಾನ್ ಪ್ರಸರಣ, LPCVD, ಹಿಂಭಾಗದ ರಂಜಕದ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಅನೀಲಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳು ಬೇಕಾಗುತ್ತವೆ. ಪ್ರಸ್ತುತ, ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ TOPCon ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ LPCVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಬೋರಾನ್ ಪ್ರಸರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಅವುಗಳ ಅನ್ವಯವನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಪರಿಶೀಲಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಚಿತ್ರ ಕೋಶ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳ ಅನ್ವಯ.

ಗಮನಿಸಿ: PERC ಮತ್ತು TOPCon ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳ ಮುಂಭಾಗ ಮತ್ತು ಹಿಂಭಾಗದ ಲೇಪನದ ನಂತರ, ಸ್ಕ್ರೀನ್ ಪ್ರಿಂಟಿಂಗ್, ಸಿಂಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷೆ ಮತ್ತು ವಿಂಗಡಣೆಯಂತಹ ಲಿಂಕ್‌ಗಳು ಇನ್ನೂ ಇವೆ, ಇವು ದೋಣಿ ಬೆಂಬಲಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಮೇಲಿನ ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ಪಟ್ಟಿ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ.