Gevorderde SiC-kantileverpeddel vir waferverwerking

Die GevorderdeSiC-vrydraende peddelvir Waferverwerking, geskep deur vet-china, bied 'n uitstekende oplossing vir halfgeleiervervaardiging. Hierdie vrydraende roeispaan is gemaak van SiC (silikonkarbied) materiaal, en die hoë hardheid en hittebestandheid daarvan stel dit in staat om uitstekende werkverrigting in hoë temperatuur en korrosiewe omgewings te handhaaf. Die ontwerp van die vrydraende roeispaan laat die wafer betroubaar ondersteun word tydens verwerking, wat die risiko van fragmentering en skade verminder.

SiC-vrydraende peddelis 'n gespesialiseerde komponent wat in halfgeleiervervaardigingstoerusting soos oksidasie-oonde, diffusie-oonde en gloei-oonde gebruik word. Die hoofgebruik is vir die laai en aflaai van wafers, en ondersteun en vervoer wafers tydens hoëtemperatuurprosesse.

Algemene strukturevanSiCcanti-lewerpverslawing: 'n Vrydraende struktuur, vas aan die een kant en vry aan die ander kant, het tipies 'n plat en roeispaanagtige ontwerp.

VET Energy gebruik hoë suiwerheid herkristalliseerde silikonkarbied materiale om die gehalte te waarborg.