O AvançadoPá Cantilever SiCpara Processamento de Wafers, criado pela vet-china, oferece uma excelente solução para a fabricação de semicondutores. Esta pá cantilever é feita de SiC (carboneto de silício), e sua alta dureza e resistência ao calor permitem manter excelente desempenho em ambientes corrosivos e de alta temperatura. O design da pá cantilever permite que o wafer seja suportado de forma confiável durante o processamento, reduzindo o risco de fragmentação e danos.
Pá Cantilever SiCé um componente especializado usado em equipamentos de fabricação de semicondutores, como fornos de oxidação, fornos de difusão e fornos de recozimento. O uso principal é para carregamento e descarregamento de wafers, suporte e transporte de wafers durante processos de alta temperatura.
Estruturas comunsdeSiCcantialavancapaddle: uma estrutura cantilever, fixa em uma extremidade e livre na outra, normalmente tem um design plano e semelhante a uma pá.
A VET Energy usa materiais de carboneto de silício recristalizado de alta pureza para garantir a qualidade.
| Propriedades físicas do carboneto de silício recristalizado | |
| Propriedade | Valor típico |
| Temperatura de trabalho (°C) | 1600°C (com oxigênio), 1700°C (ambiente redutor) |
| Conteúdo de SiC | > 99,96% |
| Conteúdo Si grátis | < 0,1% |
| Densidade aparente | 2,60-2,70 g/cm3 |
| Porosidade aparente | < 16% |
| Resistência à compressão | > 600MPa |
| Resistência à flexão a frio | 80-90 MPa (20°C) |
| Resistência à flexão a quente | 90-100 MPa (1400°C) |
| Expansão térmica a 1500°C | 4,70 10-6/°C |
| Condutividade térmica a 1200°C | 23W/m•K |
| Módulo de elasticidade | 240 GPa |
| Resistência ao choque térmico | Extremamente bom |
As vantagens da pá cantilever de SiC avançada da VET Energy para processamento de wafers são:
- Estabilidade em alta temperatura: utilizável em ambientes acima de 1600°C;
-Baixo coeficiente de expansão térmica: mantém a estabilidade dimensional, reduzindo o risco de empenamento do wafer;
-Alta pureza: menor risco de contaminação por metais;
- Inércia química: resistente à corrosão, adequado para vários ambientes gasosos;
-Alta resistência e dureza: Resistente ao desgaste, longa vida útil;
-Boa condutividade térmica: auxilia no aquecimento uniforme do wafer.
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