Chemiese dampafsetting (KVS) verwys na die proses om 'n soliede film op die oppervlak van 'n silikon te deponeerwafeldeur 'n chemiese reaksie van 'n gasmengsel. Volgens die verskillende reaksietoestande (druk, voorloper) kan dit in verskeie toerustingmodelle verdeel word.
Vir watter prosesse word hierdie twee toestelle gebruik?
PECVD(Plasma-versterkte) toerusting is die mees talryke en mees gebruikte, gebruik in OX, nitride, metaalhek, amorfe koolstof, ens.; LPCVD (Lae Krag) word gewoonlik gebruik in nitride, poli, TEOS.
Wat is die beginsel?
PECVD - 'n proses wat plasma-energie en CVD perfek kombineer. PECVD-tegnologie gebruik lae-temperatuur plasma om gloei-ontlading by die katode van die proseskamer (d.w.s. monsterbak) onder lae druk te veroorsaak. Hierdie gloei-ontlading of ander verhittingstoestel kan die temperatuur van die monster tot 'n voorafbepaalde vlak verhoog en dan 'n beheerde hoeveelheid prosesgas inbring. Hierdie gas ondergaan 'n reeks chemiese en plasma-reaksies en vorm uiteindelik 'n soliede film op die oppervlak van die monster.
LPCVD - Laedruk chemiese dampafsetting (LPCVD) is ontwerp om die bedryfsdruk van die reaksiegas in die reaktor tot ongeveer 133 Pa of minder te verminder.
Wat is die eienskappe van elkeen?
PECVD - 'n Proses wat plasma-energie en CVD perfek kombineer: 1) Lae-temperatuur werking (vermy hoë temperatuur skade aan die toerusting); 2) Vinnige filmgroei; 3) Nie kieskeurig oor materiale nie, OX, nitride, metaalhek, amorfe koolstof kan almal groei; 4) Daar is 'n in-situ moniteringstelsel wat die resep kan aanpas deur ioonparameters, gasvloeitempo, temperatuur en filmdikte.
LPCVD - Dun films wat deur LPCVD neergelê word, sal beter stapbedekking, goeie samestelling- en struktuurbeheer, hoë neerleggingstempo en -uitset hê. Boonop benodig LPCVD nie draergas nie, dus verminder dit die bron van deeltjiebesoedeling aansienlik en word dit wyd gebruik in halfgeleierbedrywe met hoë waardetoevoeging vir dunfilmneerlegging.
Welkom enige kliënte van oor die hele wêreld om ons te besoek vir 'n verdere bespreking!
https://www.vet-china.com/
https://www.vet-china.com/cvd-coating/
https://www.vet-china.com/silicon-carbide-sic-ceramic/
Plasingstyd: 24 Julie 2024