Depositio vaporis chemici (Morbus cardiovascularis (CVD)) ad processum depositionis pelliculae solidae in superficie silicii refertur.crustulumper reactionem chemicam mixturae gasorum. Secundum diversas condiciones reactionis (pressionem, praecursorem), in varia exempla instrumentorum dividi potest.
Ad quos processus hae duae machinae adhibentur?
PECVDApparatus (Plasma Enhanced) est numerus multus et frequentissime adhibitus, in OX, Nitride, porta metallica, carbone amorpho, et cetera; LPCVD (Low Power) plerumque in Nitride, Poly, TEOS adhibetur.
Quod est principium?
PECVD—processus qui energiam plasmatis et CVD perfecte coniungit. Technologia PECVD plasmam temperaturae humilis adhibet ad inducendam emissionem luminis in cathodo camerae processus (i.e., alveo speciminis) sub pressione humili. Haec emissio luminis vel aliud instrumentum calefactionis temperaturam speciminis ad gradum praefinitum elevare potest, deinde quantitatem moderatam gasis processus introducere. Hoc gas seriem reactionum chemicarum et plasmatis subit, et tandem pelliculam solidam in superficie speciminis format.
LPCVD - Depositio chemica vaporis pressionis humilis (LPCVD) destinatur ad pressionem operandi gas reactionis in reactore reducendam ad circiter 133Pa vel minus.
Quae sunt cuiusque proprietates?
PECVD - Processus qui energiam plasmatis et CVD perfecte coniungit: 1) Operatio temperaturae humilis (vitans damnum apparatui ex temperatura alta); 2) Celeris accretio pelliculae; 3) Non selectivus de materiis, OX, Nitridum, porta metallica, carbo amorphus omnia crescere possunt; 4) Systema monitorium in situ adest, quod formulam per parametros ionum, fluxus gasis, temperaturam et crassitudinem pelliculae accommodare potest.
LPCVD - Pelliculae tenues per LPCVD depositae meliorem graduum opertionem, bonam compositionem et structuram moderationem, et celeritatem depositionis et productionem habebunt. Praeterea, LPCVD gas vectorem non requirit, ita fontem pollutionis particularum magnopere minuit et late in industriis semiconductorum magni valoris additi ad depositionem pellicularum tenuium adhibetur.
Clientes ex toto orbe terrarum ad nos visitandos ad ulteriorem disputationem invitamus!
https://www.vet-china.com/
https://www.vet-china.com/cvd-coating/
https://www.vet-china.com/silicon-carbide-sic-ceramic/
Tempus publicationis: XXIV Iulii, MMXXIV