সেমিকন্ডাক্টর CVD যন্ত্রপাতিতে PECVD এবং LPCVD-এর মধ্যে পার্থক্য কী?

রাসায়নিক বাষ্প জমা (সিভিডিসিলিকনের পৃষ্ঠে একটি কঠিন ফিল্ম জমা করার প্রক্রিয়াকে বোঝায়ওয়েফারগ্যাস মিশ্রণের রাসায়নিক বিক্রিয়ার মাধ্যমে। বিভিন্ন বিক্রিয়ার শর্ত (চাপ, পূর্ববর্তী পদার্থ) অনুসারে, এটিকে বিভিন্ন সরঞ্জাম মডেলে ভাগ করা যেতে পারে।

এই দুটি ডিভাইস কী কী কাজে ব্যবহৃত হয়?

পিইসিভিডিপ্লাজমা এনহ্যান্সড (Plasma Enhanced) যন্ত্রপাতি সংখ্যায় সর্বাধিক এবং বহুল ব্যবহৃত, যা OX, নাইট্রাইড, মেটাল গেট, অ্যামরফাস কার্বন ইত্যাদিতে ব্যবহৃত হয়; এলপিসিভিডি (LPCVD) (লো পাওয়ার) সাধারণত নাইট্রাইড, পলি, টিইওএস (TEOS)-এ ব্যবহৃত হয়।
নীতিটি কী?
PECVD হলো এমন একটি প্রক্রিয়া যা প্লাজমা শক্তি এবং CVD-কে নিখুঁতভাবে একত্রিত করে। PECVD প্রযুক্তি কম চাপে প্রসেস চেম্বারের (অর্থাৎ, স্যাম্পল ট্রে) ক্যাথোডে গ্লো ডিসচার্জ ঘটাতে নিম্ন-তাপমাত্রার প্লাজমা ব্যবহার করে। এই গ্লো ডিসচার্জ বা অন্য কোনো উত্তাপক যন্ত্র স্যাম্পলের তাপমাত্রা একটি পূর্বনির্ধারিত মাত্রায় উন্নীত করতে পারে এবং তারপর একটি নিয়ন্ত্রিত পরিমাণ প্রসেস গ্যাস প্রবেশ করানো হয়। এই গ্যাসটি ধারাবাহিক রাসায়নিক ও প্লাজমা বিক্রিয়ার মধ্য দিয়ে যায় এবং অবশেষে স্যাম্পলের পৃষ্ঠে একটি কঠিন ফিল্ম তৈরি করে।

এলপিসিভিডি (LPCVD) - লো-প্রেসার কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন (LPCVD) পদ্ধতির উদ্দেশ্য হলো রিয়্যাক্টরের মধ্যে বিক্রিয়া গ্যাসের কার্যকারী চাপ প্রায় ১৩৩ প্যাসকেল (Pa) বা তারও কমিয়ে আনা।

প্রত্যেকটির বৈশিষ্ট্যগুলো কী কী?

PECVD - একটি প্রক্রিয়া যা প্লাজমা শক্তি এবং CVD-কে নিখুঁতভাবে একত্রিত করে: ১) নিম্ন-তাপমাত্রায় পরিচালনা (সরঞ্জামের উচ্চ-তাপজনিত ক্ষতি এড়ানো); ২) দ্রুত ফিল্ম বৃদ্ধি; ৩) উপকরণ নিয়ে কোনো বাছবিচার নেই, OX, নাইট্রাইড, মেটাল গেট, অ্যামরফাস কার্বন সবই এর মাধ্যমে বৃদ্ধি করা যায়; ৪) এতে একটি ইন-সিটু মনিটরিং সিস্টেম রয়েছে, যার মাধ্যমে আয়ন প্যারামিটার, গ্যাস প্রবাহের হার, তাপমাত্রা এবং ফিল্মের পুরুত্ব নিয়ন্ত্রণ করে কার্যপ্রণালী সমন্বয় করা যায়।
এলপিসিভিডি (LPCVD) পদ্ধতিতে জমা করা পাতলা ফিল্মগুলিতে উন্নত স্টেপ কভারেজ, ভালো কম্পোজিশন ও স্ট্রাকচার কন্ট্রোল এবং উচ্চ ডিপোজিশন রেট ও আউটপুট পাওয়া যায়। এছাড়াও, এলপিসিভিডি-তে কোনো ক্যারিয়ার গ্যাসের প্রয়োজন হয় না, ফলে এটি কণা দূষণের উৎসকে ব্যাপকভাবে হ্রাস করে এবং উচ্চ মূল্য সংযোজিত সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে পাতলা ফিল্ম জমা করার জন্য ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।