ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ CVD ଉପକରଣରେ PECVD ଏବଂ LPCVD ମଧ୍ୟରେ କ'ଣ ପାର୍ଥକ୍ୟ ଅଛି?

ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (ସିଭିଡି) ଏକ ସିଲିକନର ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ କଠିନ ଫିଲ୍ମ ଜମା କରିବାର ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ବୁଝାଏୱାଫରଏକ ଗ୍ୟାସ ମିଶ୍ରଣର ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ। ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଅବସ୍ଥା (ଚାପ, ପୂର୍ବବର୍ତ୍ତୀ) ଅନୁସାରେ, ଏହାକୁ ବିଭିନ୍ନ ଉପକରଣ ମଡେଲରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରିବ।

ଏହି ଦୁଇଟି ଉପକରଣ କେଉଁ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ?

ପିଇସିଭିଡି(ପ୍ଲାଜମା ଏନହାନ୍ସଡ୍) ଉପକରଣ ହେଉଛି ସବୁଠାରୁ ଅଧିକ ଏବଂ ସାଧାରଣତଃ ବ୍ୟବହୃତ, ଯାହା OX, ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍, ଧାତୁ ଗେଟ୍, ଆମୋରଫସ୍ କାର୍ବନ, ଇତ୍ୟାଦିରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ; LPCVD (ନିମ୍ନ ଶକ୍ତି) ସାଧାରଣତଃ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍, ପଲି, TEOS ରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
ନୀତି କ’ଣ?
PECVD - ଏକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯାହା ପ୍ଲାଜ୍ମା ଶକ୍ତି ଏବଂ CVD କୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ମିଶ୍ରଣ କରେ। PECVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା କମ୍ ଚାପରେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଚାମ୍ବର (ଅର୍ଥାତ୍ ନମୁନା ଟ୍ରେ) ର କ୍ୟାଥୋଡରେ ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ କରିବା ପାଇଁ ନିମ୍ନ-ତାପମାନର ପ୍ଲାଜ୍ମା ବ୍ୟବହାର କରେ। ଏହି ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ କିମ୍ବା ଅନ୍ୟ ଗରମ ଉପକରଣ ନମୁନାର ତାପମାତ୍ରାକୁ ଏକ ପୂର୍ବନିର୍ଦ୍ଧାରିତ ସ୍ତରକୁ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ, ଏବଂ ତା’ପରେ ଏକ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ପରିମାଣର ପ୍ରକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସ ପ୍ରବର୍ତ୍ତନ କରିପାରିବ। ଏହି ଗ୍ୟାସ ରାସାୟନିକ ଏବଂ ପ୍ଲାଜ୍ମା ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର ଏକ ଶୃଙ୍ଖଳା ଦେଇଥାଏ, ଏବଂ ଶେଷରେ ନମୁନାର ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ କଠିନ ଫିଲ୍ମ ଗଠନ କରେ।

LPCVD - ନିମ୍ନ-ଚାପ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ନିବେଶ (LPCVD) ରିଆକ୍ଟରରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସର କାର୍ଯ୍ୟ ଚାପକୁ ପ୍ରାୟ 133Pa କିମ୍ବା ତା'ଠାରୁ କମ୍ କରିବା ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ କରାଯାଇଛି।

ପ୍ରତ୍ୟେକର ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡ଼ିକ କ’ଣ?

PECVD - ଏକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯାହା ପ୍ଲାଜ୍ମା ଶକ୍ତି ଏବଂ CVD କୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ମିଶ୍ରଣ କରେ: 1) ନିମ୍ନ-ତାପମାନର କାର୍ଯ୍ୟ (ଉପକରଣକୁ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଷତିକୁ ଏଡାଇବା); 2) ଦ୍ରୁତ ଫିଲ୍ମ ବୃଦ୍ଧି; 3) ସାମଗ୍ରୀ ବିଷୟରେ ପସନ୍ଦ ନକରି, OX, ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍, ଧାତୁ ଗେଟ୍, ଆକାରହୀନ କାର୍ବନ ସମସ୍ତେ ବୃଦ୍ଧି ପାଇପାରିବେ; 4) ଏକ ଇନ-ସିଟୁ ମନିଟରିଂ ସିଷ୍ଟମ ଅଛି, ଯାହା ଆୟନ ପାରାମିଟର, ଗ୍ୟାସ ପ୍ରବାହ ହାର, ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ଫିଲ୍ମ ଘନତା ମାଧ୍ୟମରେ ରେସିପିକୁ ସଜାଡ଼ି ପାରିବ।
LPCVD - LPCVD ଦ୍ୱାରା ଜମା ହୋଇଥିବା ପତଳା ଫିଲ୍ମଗୁଡିକରେ ଉତ୍ତମ ଷ୍ଟେପ୍ କଭରେଜ୍, ଭଲ ରଚନା ଏବଂ ଗଠନ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ, ଉଚ୍ଚ ଜମା ହାର ଏବଂ ଆଉଟପୁଟ୍ ରହିବ। ଏହା ସହିତ, LPCVD କୁ ବାହକ ଗ୍ୟାସର ଆବଶ୍ୟକତା ନାହିଁ, ତେଣୁ ଏହା କଣିକା ପ୍ରଦୂଷଣର ଉତ୍ସକୁ ବହୁ ପରିମାଣରେ ହ୍ରାସ କରେ ଏବଂ ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଜମା ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ ମୂଲ୍ୟଯୁକ୍ତ ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟାପକ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।