குறைக்கடத்தி CVD உபகரணங்களில் PECVD மற்றும் LPCVD இடையே உள்ள வேறுபாடு என்ன?

வேதியியல் நீராவி படிவு (சிவிடி) என்பது ஒரு சிலிக்கானின் மேற்பரப்பில் ஒரு திடமான படலத்தை வைப்பதற்கான செயல்முறையைக் குறிக்கிறது.வேஃபர்ஒரு வாயு கலவையின் வேதியியல் எதிர்வினை மூலம். வெவ்வேறு எதிர்வினை நிலைமைகளின்படி (அழுத்தம், முன்னோடி), அதை பல்வேறு உபகரண மாதிரிகளாகப் பிரிக்கலாம்.

இந்த இரண்டு சாதனங்களும் என்ன செயல்முறைகளுக்குப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன?

பி.இ.சி.வி.டி.(பிளாஸ்மா மேம்படுத்தப்பட்ட) உபகரணங்கள் மிகவும் ஏராளமானவை மற்றும் பொதுவாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன, இது OX, நைட்ரைடு, உலோக வாயில், உருவமற்ற கார்பன் போன்றவற்றில் பயன்படுத்தப்படுகிறது; LPCVD (குறைந்த சக்தி) பொதுவாக நைட்ரைடு, பாலி, TEOS இல் பயன்படுத்தப்படுகிறது.
கொள்கை என்ன?
PECVD - பிளாஸ்மா ஆற்றலையும் CVD யையும் சரியாக இணைக்கும் ஒரு செயல்முறை. PECVD தொழில்நுட்பம் குறைந்த வெப்பநிலை பிளாஸ்மாவைப் பயன்படுத்தி குறைந்த அழுத்தத்தின் கீழ் செயல்முறை அறையின் கேத்தோடில் (அதாவது, மாதிரி தட்டு) பளபளப்பு வெளியேற்றத்தைத் தூண்டுகிறது. இந்த பளபளப்பு வெளியேற்றம் அல்லது பிற வெப்பமூட்டும் சாதனம் மாதிரியின் வெப்பநிலையை முன்னரே தீர்மானிக்கப்பட்ட நிலைக்கு உயர்த்தலாம், பின்னர் கட்டுப்படுத்தப்பட்ட அளவு செயல்முறை வாயுவை அறிமுகப்படுத்தலாம். இந்த வாயு தொடர்ச்சியான வேதியியல் மற்றும் பிளாஸ்மா எதிர்வினைகளுக்கு உட்படுகிறது, மேலும் இறுதியாக மாதிரியின் மேற்பரப்பில் ஒரு திடமான படலத்தை உருவாக்குகிறது.

LPCVD - குறைந்த அழுத்த வேதியியல் நீராவி படிவு (LPCVD) என்பது உலையில் உள்ள வினை வாயுவின் இயக்க அழுத்தத்தை சுமார் 133Pa அல்லது அதற்கும் குறைவாகக் குறைக்க வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளது.

ஒவ்வொன்றின் பண்புகள் என்ன?

PECVD - பிளாஸ்மா ஆற்றலையும் CVDயையும் சரியாக இணைக்கும் ஒரு செயல்முறை: 1) குறைந்த வெப்பநிலை செயல்பாடு (உபகரணங்களுக்கு அதிக வெப்பநிலை சேதத்தைத் தவிர்ப்பது); 2) வேகமான படல வளர்ச்சி; 3) பொருட்களைப் பற்றி அதிகம் தெரிந்து கொள்ளாதது, OX, நைட்ரைடு, உலோக வாயில், உருவமற்ற கார்பன் அனைத்தும் வளரக்கூடியது; 4) அயன் அளவுருக்கள், வாயு ஓட்ட விகிதம், வெப்பநிலை மற்றும் படல தடிமன் மூலம் செய்முறையை சரிசெய்யக்கூடிய ஒரு இடத்திலேயே கண்காணிப்பு அமைப்பு உள்ளது.
LPCVD - LPCVD ஆல் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட மெல்லிய படலங்கள் சிறந்த படி கவரேஜ், நல்ல கலவை மற்றும் கட்டமைப்பு கட்டுப்பாடு, அதிக படிவு விகிதம் மற்றும் வெளியீடு ஆகியவற்றைக் கொண்டிருக்கும். கூடுதலாக, LPCVD க்கு கேரியர் வாயு தேவையில்லை, எனவே இது துகள் மாசுபாட்டின் மூலத்தை வெகுவாகக் குறைக்கிறது மற்றும் மெல்லிய படல படிவுக்காக அதிக மதிப்பு கூட்டப்பட்ட குறைக்கடத்தி தொழில்களில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.