ଛିଦ୍ରଯୁକ୍ତ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ SiC ସେରାମିକ୍

ଛିଦ୍ରଯୁକ୍ତ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ SiC ସେରାମିକ୍
ଛିଦ୍ରଯୁକ୍ତ SiC ସେରାମିକ୍ଏହା ଏକ ଉଚ୍ଚ-କ୍ଷମତା ସମ୍ପନ୍ନ ସିରାମିକ୍ ସାମଗ୍ରୀ ଯାହାର ନିୟନ୍ତ୍ରଣଯୋଗ୍ୟ ଛିଦ୍ର ଗଠନ ରହିଛି, ଯେଉଁଥିରେ ଅତ୍ୟଧିକ ବିଶୁଦ୍ଧତା, ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ ପ୍ରତିରୋଧ, ତାପଜ ଆଘାତ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଜଡ଼ତା ରହିଛି। ଏଗୁଡ଼ିକ ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ ଉତ୍ପାଦନ, ଫଟୋଭୋଲ୍ଟିକ୍ ସିଲିକନ୍ ୱେଫର ଉତ୍ପାଦନ ଏବଂ ତୃତୀୟ-ପିଢ଼ି ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ (SiC/GaN) ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଭଳି ଉନ୍ନତ କ୍ଷେତ୍ରରେ ବ୍ୟାପକ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।

VET ଏନର୍ଜି ସଠିକ୍ ପୋର୍ ଆକାର ନିୟନ୍ତ୍ରଣ (0.05–100μm) ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ ଉନ୍ନତ ସିଣ୍ଟରିଂ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ସହିତ ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା SiC ପାଉଡର ବ୍ୟବହାର କରେ, ଫିଲ୍ଟେରେସନ୍, ପ୍ରସାରଣ, କାଟାଲିସିସ୍ ଏବଂ ଥର୍ମାଲ୍ ପରିଚାଳନା ପାଇଁ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରୟୋଗ ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରେ। ଏହା ଅର୍ଦ୍ଧଚାଳକ ଏବଂ ଫଟୋଭୋଲ୍ଟାଇକ୍ ଶିଳ୍ପ ପାଇଁ ଉତ୍ପାଦନ ହାର ବୃଦ୍ଧି କରିବା, ପ୍ରଦୂଷଣ ହ୍ରାସ କରିବା ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାଗୁଡ଼ିକୁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଆଦର୍ଶ ପସନ୍ଦ।

ଆମର ମୁଖ୍ୟ ଲାଭଗୁଡ଼ିକ
✅ ଅତ୍ୟନ୍ତ-ଉଚ୍ଚ ବିଶୁଦ୍ଧତା:
ଧାତୁ ଅଶୁଦ୍ଧତା <0.5ppm, SEMI ମାନଦଣ୍ଡ ସହିତ ଅନୁପାଳନ, ୱାଫର ପ୍ରଦୂଷଣକୁ ରୋକିଥାଏ;
✅ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ (୧୬୦୦℃ ରେ ନିରନ୍ତର ବ୍ୟବହାର):
CVD, ପ୍ରସାରଣ ଫର୍ଣ୍ଣେସ୍, ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ସ୍ମେଲ୍ଟିଂ ଭଳି ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପରିବେଶ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ;
✅ ଶକ୍ତିଶାଳୀ ଥର୍ମାଲ୍ ଆଘାତ ପ୍ରତିରୋଧ:
ଦ୍ରୁତ ତାପମାତ୍ରା ପରିବର୍ତ୍ତନ ସହିତ ଖାପ ଖୁଆଇଥାଏ, ଉପକରଣର ଡାଉନଟାଇମ୍ ହ୍ରାସ କରିଥାଏ
✅ ରାସାୟନିକ ଜଡ଼ତା (ଏସିଡ୍, କ୍ଷାର ଏବଂ ତରଳ ଧାତୁ ପ୍ରତିରୋଧୀ):
HF ଏବଂ Cl₂ ଭଳି କ୍ଷୟକାରୀ ଗ୍ୟାସ ପ୍ରତି ପ୍ରତିରୋଧୀ, ଯାହାର ଜୀବନକାଳ ଧାତୁ ଫିଲ୍ଟର ଅପେକ୍ଷା ବହୁତ ଅଧିକ;
✅ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ଛିଦ୍ର ଗଠନ (୦.୦୫-୧୦୦ନମ୍):
ଗ୍ରେଡେଡ୍ ଫିଲ୍ଟେରେସନକୁ ସମର୍ଥନ କରେ, ତରଳ ପ୍ରବାହ ଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରେ;

ସାଧାରଣ ପ୍ରୟୋଗ
୧. ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନ: CVD/ALD ଗ୍ୟାସ ଫିଲ୍ଟ୍ରେସନ, ଡିଫ୍ୟୁଜନ ଫର୍ଣ୍ଣେସ୍ ପ୍ରବାହ ବଣ୍ଟନ ପ୍ଲେଟ୍, ଏଚିଂ ନିଷ୍କାସନ ଗ୍ୟାସ ଚିକିତ୍ସା, ଇତ୍ୟାଦି।
2. ଫଟୋଭୋଲଟାଇକ୍ ଶିଳ୍ପ: ସିଲିକନ୍ ସାମଗ୍ରୀ ତରଳାଇବା ଫିଲ୍ଟେରେସନ୍, PERC ସେଲ୍ ଆବରଣ ମାସ୍କ, ଇତ୍ୟାଦି।
3. ତୃତୀୟ-ପିଢ଼ିର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର (SiC/GaN): ୱେଫର ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ପ୍ରି-ଟ୍ରିଟମେଣ୍ଟ।