سيراميك كربيد السيليكون المسامي (SiC)

سيراميك كربيد السيليكون المسامي (SiC)
سيراميك كربيد السيليكون المساميهي مادة خزفية عالية الأداء ذات بنية مسامية قابلة للتحكم، تتميز بنقائها الفائق، ومقاومتها العالية للحرارة، ومقاومتها للصدمات الحرارية، وخمولها الكيميائي. وتُستخدم على نطاق واسع في مجالات متقدمة مثل تصنيع أشباه الموصلات، وإنتاج رقائق السيليكون الكهروضوئية، وعمليات الترسيب الطبقي لأشباه الموصلات من الجيل الثالث (SiC/GaN).

تستخدم شركة VET Energy مسحوق كربيد السيليكون عالي النقاء مع تقنية التلبيد المتقدمة لتحقيق تحكم دقيق في حجم المسام (0.05-100 ميكرومتر)، ما يلبي متطلبات التطبيقات المتنوعة في مجالات الترشيح والانتشار والحفز والإدارة الحرارية. وهي خيار مثالي لصناعات أشباه الموصلات والخلايا الكهروضوئية لتعزيز معدلات الإنتاج، وتقليل التلوث، وتحسين العمليات.

مزايانا الأساسية
✅ نقاء فائق:
شوائب معدنية <0.5 جزء في المليون، متوافقة مع معايير SEMI، مما يمنع تلوث الرقاقة؛
✅ مقاومة عالية للحرارة (استخدام مستمر عند 1600 درجة مئوية):
مناسب للبيئات ذات درجات الحرارة العالية مثل الترسيب الكيميائي للبخار، وأفران الانتشار، وصهر السيليكون؛
✅ مقاومة عالية للصدمات الحرارية:
يتكيف مع التغيرات السريعة في درجات الحرارة، مما يقلل من وقت توقف المعدات
✅ الخمول الكيميائي (مقاومة للأحماض والقلويات والمعادن المنصهرة):
مقاومة للغازات المسببة للتآكل مثل HF و Cl₂، مع عمر افتراضي يتجاوز بكثير عمر المرشحات المعدنية؛
✅ بنية مسامية مضبوطة (0.05-100 ميكرومتر):
يدعم الترشيح المتدرج، مما يحسن كفاءة تدفق السوائل؛

التطبيق النموذجي
1. تصنيع أشباه الموصلات: ترشيح الغازات بتقنية الترسيب الكيميائي للبخار/الترسيب الذري الطبقي، وألواح توزيع تدفق فرن الانتشار، ومعالجة غاز العادم الناتج عن الحفر، إلخ.
2. صناعة الخلايا الكهروضوئية: ترشيح صهر مادة السيليكون، وأقنعة طلاء خلايا PERC، وما إلى ذلك.
3. أشباه الموصلات من الجيل الثالث (SiC/GaN): المعالجة المسبقة للطبقة الرقيقة.