Порозни силицијум карбид SiC керамика

Порозни силицијум карбид SiC керамика
Порозни SiC керамикаје високоперформансни керамички материјал са контролисаном структуром пора, који се одликује ултрависоком чистоћом, отпорношћу на високе температуре, отпорношћу на термичке ударе и хемијском инертношћу. Широко се користи у напредним областима као што су производња полупроводника, производња фотонапонских силицијумских плочица и епитаксијални процеси полупроводника треће генерације (SiC/GaN).

VET Energy користи SiC прах високе чистоће у комбинацији са напредном технологијом синтеровања како би се постигла прецизна контрола величине пора (0,05–100 μm), испуњавајући различите захтеве примене за филтрацију, дифузију, катализу и управљање температуром. Идеалан је избор за полупроводничку и фотонапонску индустрију за повећање приноса, смањење контаминације и оптимизацију процеса.

Наше основне предности
✅ Ултра висока чистоћа:
металне нечистоће <0,5ppm, у складу са SEMI стандардима, спречавајући контаминацију плочице;
✅ Отпорност на високе температуре (континуирана употреба на 1600℃):
погодно за окружења са високим температурама као што су CVD, дифузионе пећи и топљење силицијума;
✅ Јака отпорност на термички удар:
прилагођава се брзим променама температуре, смањујући време застоја опреме
✅ Хемијска инертност (отпорна на киселине, алкалије и растопљене метале):
отпоран на корозивне гасове као што су HF и Cl₂, са веком трајања далеко већим од металних филтера;
✅ Контролисана структура пора (0,05-100um):
подржава степенасту филтрацију, побољшавајући ефикасност протока течности;

Типична примена
1. Производња полупроводника: CVD/ALD филтрација гаса, плоче за расподелу протока у дифузионој пећи, третман издувних гасова нагризањем итд.
2. Фотонапонска индустрија: Филтрација топљењем силицијумског материјала, маске за премаз PERC ћелија итд.
3. Полупроводници треће генерације (SiC/GaN): Епитаксијална претходна обрада плочица.