Эпітаксіяльны рост пласцін дасягаецца з дапамогай тэхналогіі металарганічнага хімічнага асаджэння з паравой фазы (MOCVD), пры якой звышчыстыя газы ўводзяцца ў рэактар і дакладна дазуюцца, каб яны злучаліся пры падвышаных тэмпературах, выклікаючы хімічныя ўзаемадзеянні, і наносіліся на паўправадніковыя пласціны вельмі тонкімі атамнымі пластамі, утвараючы эпітаксію матэрыялаў і складаных паўправаднікоў.
У CVD-абсталяванні падкладку нельга размяшчаць непасрэдна на метале або проста на аснове для эпітаксіяльнага нанясення, бо на яе будзе ўплываць мноства фактараў. Таму для ўтрымання падкладкі неабходны тасцэптар або латок, а затым выкарыстоўваць тэхналогію CVD для эпітаксіяльнага нанясення на падкладку. Гэты тасцэптар з'яўляецца...Графітавы сусцэтар MOCVD(таксама называеццаГрафітавы латок MOCVD).
Яго структура паказана на малюнку ніжэй:
Чаму графітавы тасцэптар патрабуе пакрыцця метадам хімічнага осаду (CVD)?
Графітавы тасцэптар з'яўляецца адным з асноўных кампанентаў абсталявання MOCVD. Ён з'яўляецца носьбітам і награвальным элементам падкладкі. Яго эксплуатацыйныя параметры, такія як тэрмічная стабільнасць і тэрмічная аднастайнасць, адыгрываюць вырашальную ролю ў якасці эпітаксіяльнага росту матэрыялу і непасрэдна вызначаюць аднастайнасць і чысціню эпітаксіяльных тонкаплёнкавых матэрыялаў. Такім чынам, яго якасць непасрэдна ўплывае на падрыхтоўку эпітаксіяльных пласцін. У той жа час, з павелічэннем колькасці выкарыстанняў і зменамі ўмоў працы, ён вельмі лёгка зношваецца і з'яўляецца расходным матэрыялам. Выдатная цеплаправоднасць і стабільнасць графіту даюць яму вялікую перавагу ў якасці базавага кампанента абсталявання MOCVD.
Аднак, калі гэта толькі чысты графіт, узнікнуць некаторыя праблемы. У працэсе вытворчасці будуць заставацца рэшткі каразійных газаў і металічных арганічных рэчываў, у выніку чаго графітавы сусцэптар будзе карозаваць і адвальвацца, што значна скарачае тэрмін яго службы. Адначасова, падаючы графітавы парашок таксама будзе забруджваць пласціну, таму гэтыя праблемы неабходна вырашаць у працэсе падрыхтоўкі асновы. Тэхналогія пакрыцця можа забяспечыць павярхоўную фіксацыю парашка, палепшыць цеплаправоднасць і збалансаваць размеркаванне цяпла і стала асноўнай тэхналогіяй для вырашэння гэтай праблемы.
У залежнасці ад асяроддзя прымянення і патрабаванняў да выкарыстання графітавай асновы, павярхоўнае пакрыццё павінна мець наступныя характарыстыкі:
1. Высокая шчыльнасць і поўнае пакрыццё:Графітавая аснова знаходзіцца ў агрэсіўным асяроддзі, дзе прымяняюцца высокія тэмпературы. Паверхня павінна быць цалкам пакрыта, а пакрыццё павінна мець добрую шчыльнасць, каб выконваць добрую ахоўную ролю.
2. Добрая роўнасць паверхні:Паколькі графітавая аснова, якая выкарыстоўваецца для росту монакрышталяў, патрабуе вельмі высокай плоскасці паверхні, пасля падрыхтоўкі пакрыцця неабходна падтрымліваць першапачатковую плоскасць асновы, гэта значыць паверхня пакрыцця павінна быць аднастайнай.
3. Добрая трываласць счаплення:Зніжэнне розніцы ў каэфіцыенце цеплавога пашырэння паміж графітавай асновай і матэрыялам пакрыцця можа эфектыўна палепшыць трываласць злучэння паміж імі. Пасля цыклічнага ўздзеяння высокіх і нізкіх тэмператур пакрыццё не так лёгка трэскаецца.
4. Высокая цеплаправоднасць:Для вырошчвання якаснай стружкі графітавая аснова павінна забяспечваць хуткі і раўнамерны нагрэў, таму матэрыял пакрыцця павінен мець высокую цеплаправоднасць.
5. Высокая тэмпература плаўлення, высокая тэмпература, устойлівасць да акіслення і карозіі:Пакрыццё павінна быць здольным стабільна працаваць ва ўмовах высокай тэмпературы і агрэсіўнага працоўнага асяроддзя.
Тэрмічная стабільнасць, цеплавая аднастайнасць і іншыя параметры прадукцыйнасціГрафітавы сусцэтар з пакрыццём SiCадыгрываюць вырашальную ролю ў якасці эпітаксіяльнага росту матэрыялу, таму яны з'яўляюцца асноўным ключавым кампанентам абсталявання MOCVD.
У якасці пакрыцця абраная крышталічная форма β-SiC (3C-SiC). У параўнанні з іншымі крышталічнымі формамі, гэтая крышталічная форма мае шэраг выдатных уласцівасцей, такіх як добрая тэрмадынамічная стабільнасць, устойлівасць да акіслення і каразійная стойкасць. У той жа час яна мае цеплаправоднасць, якая ў асноўным адпавядае цеплаправоднасці графіту, што надае графітавай аснове асаблівыя ўласцівасці. Яна можа эфектыўна вырашаць праблемы разбурэння графітавай асновы, выкліканыя высокатэмпературным акісленнем і карозіяй, а таксама стратай парашка падчас эксплуатацыі, і робіць паверхню графітавай асновы шчыльнай, непарыстай, высокатэмпературнай, антыкаразійнай, антыакісляльнай і іншымі характарыстыкамі, тым самым паляпшаючы якасць крышталічнай эпітаксіяльнай эпітаксіі і тэрмін службы графітавай асновы (тэрмін службы графітавай асновы з пакрыццём SiC вымяраецца ў печах).
Як выбраць графітавы латок/сусцэптар MOCVD, устойлівы да высокіх тэмператур і карозіі?
Пры выбарыграфітавы латок або прыймальнік для MOCVDякі ўстойлівы да карозіі пры высокіх тэмпературах, варта ўлічваць наступныя ключавыя фактары:
1. Чысціня матэрыялу:Высокачыстыя графітавыя матэрыялы лепш супрацьстаяць карозіі і акісленню пры высокіх тэмпературах і памяншаюць уплыў прымешак на працэс нанясення.
2. Шчыльнасць і парознасць:Графітавыя латкі з высокай шчыльнасцю і нізкай парыстасцю маюць лепшую механічную трываласць і каразійную ўстойлівасць, а таксама могуць эфектыўна прадухіляць пранікненне газу і эрозію матэрыялу.
3. Цеплаправоднасць:Графітавы паддон з высокай цеплаправоднасцю дапамагае раўнамерна размеркаваць цяпло, знізіць цеплавое напружанне, палепшыць стабільнасць і тэрмін службы абсталявання.
4. Апрацоўка паверхні:Графітавыя паддоны, якія прайшлі спецыяльную апрацоўку паверхні, напрыклад, пакрыццё або гальванізацыйнае пакрыццё, могуць яшчэ больш павысіць іх каразійную ўстойлівасць і зносаўстойлівасць.
5. Памер і форма:У адпаведнасці з канкрэтнымі патрабаваннямі абсталявання MOCVD, выберыце адпаведны памер і форму, каб забяспечыць сумяшчальнасць латка з абсталяваннем і зручнасць эксплуатацыі.
6. Рэпутацыя вытворцы:Выбірайце вытворцу з добрай рэпутацыяй і багатым вопытам, каб гарантаваць надзейнасць якасці прадукцыі і пасляпродажнага абслугоўвання.
7. Эканамічнасць:Зыходзячы з тэхнічных патрабаванняў, улічвайце эканамічную эфектыўнасць і выбірайце прадукты з больш высокай эканамічнай эфектыўнасцю.
VET Energy з'яўляецца пастаўшчыком графітавых токапрыёмнікаў высокай чысціні, мы прапануем шырокі асартымент катэгорый, якія могуць выкарыстоўвацца ў абсталяванні MOCVD розных марак, мадэляў і спецыфікацый.Графітавы сусцэтар з пакрыццём SiCВырабленыя VET Energy, яны не маюць кантактных пакрыццяў і слабых звёнаў. Што тычыцца тэрміну службы, яны могуць задаволіць патрабаванні кліентаў з рознымі патрэбамі (у тым ліку выкарыстанне хлорзмяшчальных асяроддзяў), і кліенты могуць звярнуцца па кансультацыю і атрымаць даведку.
Час публікацыі: 01 сакавіка 2025 г.