মেটাল অর্গানিক কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন (MOCVD) প্রযুক্তির মাধ্যমে ওয়েফার এপিট্যাক্সিয়াল গ্রোথ সম্পন্ন করা হয়, যেখানে রিয়্যাক্টরে অতি-বিশুদ্ধ গ্যাস সূক্ষ্মভাবে পরিমাপ করে প্রবেশ করানো হয়, যাতে সেগুলো উচ্চ তাপমাত্রায় একত্রিত হয়ে রাসায়নিক মিথস্ক্রিয়া ঘটায় এবং সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারের উপর অত্যন্ত পাতলা পারমাণবিক স্তরে জমা হয়ে বিভিন্ন পদার্থ ও যৌগিক সেমিকন্ডাক্টরের এপিট্যাক্সি গঠন করে।
CVD যন্ত্রপাতিতে, এপিথেক্সিয়াল ডিপোজিশনের জন্য সাবস্ট্রেটকে সরাসরি ধাতুর উপর বা কেবল কোনো ভিত্তির উপর রাখা যায় না, কারণ এটি বিভিন্ন কারণ দ্বারা প্রভাবিত হয়। তাই, সাবস্ট্রেটকে ধরে রাখার জন্য একটি সাসসেপ্টর বা ট্রে-এর প্রয়োজন হয়, এবং তারপর CVD প্রযুক্তি ব্যবহার করে সাবস্ট্রেটের উপর এপিথেক্সিয়াল ডিপোজিশন করা হয়। এই সাসসেপ্টরটি হলো একটিএমওসিভিডি গ্রাফাইট সাসসেপ্টর(অন্য নামেও পরিচিত)এমওসিভিডি গ্রাফাইট ট্রে).
এর গঠনটি নিচের চিত্রে দেখানো হলো:
গ্রাফাইট সাসসেপ্টরে কেন সিভিডি কোটিং প্রয়োজন?
গ্রাফাইট সাসসেপ্টর হলো MOCVD যন্ত্রপাতির অন্যতম প্রধান উপাদান। এটি সাবস্ট্রেটের বাহক এবং উত্তাপক উপাদান হিসেবে কাজ করে। এর তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং তাপীয় সমরূপতার মতো কার্যক্ষমতার পরামিতিগুলো এপিটেক্সিয়াল উপাদানের বৃদ্ধির গুণমানের ক্ষেত্রে একটি নির্ণায়ক ভূমিকা পালন করে এবং এপিটেক্সিয়াল পাতলা ফিল্ম উপাদানের সমরূপতা ও বিশুদ্ধতা সরাসরি নির্ধারণ করে। তাই, এর গুণমান এপিটেক্সিয়াল ওয়েফার তৈরির প্রক্রিয়াকে সরাসরি প্রভাবিত করে। একই সাথে, ব্যবহারের সংখ্যা বৃদ্ধি এবং কাজের পরিবেশের পরিবর্তনের সাথে সাথে এটি খুব সহজে ক্ষয়প্রাপ্ত হয় এবং এটি একটি ব্যবহার্য সামগ্রী। গ্রাফাইটের চমৎকার তাপ পরিবাহিতা এবং স্থিতিশীলতা এটিকে MOCVD যন্ত্রপাতির একটি ভিত্তি উপাদান হিসেবে দারুণ সুবিধা প্রদান করে।
তবে, যদি এটি শুধুমাত্র বিশুদ্ধ গ্রাফাইট হয়, তাহলে কিছু সমস্যা দেখা দেবে। উৎপাদন প্রক্রিয়ায়, অবশিষ্ট ক্ষয়কারী গ্যাস এবং ধাতব জৈব পদার্থ থেকে যাবে, এবং গ্রাফাইট সাসসেপ্টরটি ক্ষয়প্রাপ্ত হয়ে খসে পড়বে, যা গ্রাফাইট সাসসেপ্টরের কার্যকাল ব্যাপকভাবে কমিয়ে দেয়। একই সাথে, খসে পড়া গ্রাফাইটের গুঁড়ো ওয়েফারকেও দূষিত করবে, তাই বেস তৈরির প্রক্রিয়াতেই এই সমস্যাগুলোর সমাধান করা প্রয়োজন। কোটিং প্রযুক্তি পৃষ্ঠের গুঁড়োকে স্থির রাখতে, তাপ পরিবাহিতা বাড়াতে এবং তাপের ভারসাম্য বজায় রাখতে পারে, এবং এই সমস্যা সমাধানের প্রধান প্রযুক্তিতে পরিণত হয়েছে।
গ্রাফাইট ভিত্তির প্রয়োগ পরিবেশ এবং ব্যবহারের প্রয়োজনীয়তা অনুসারে, পৃষ্ঠের প্রলেপটিতে নিম্নলিখিত বৈশিষ্ট্য থাকা উচিত:
১. উচ্চ ঘনত্ব এবং সম্পূর্ণ আচ্ছাদন:গ্রাফাইট ভিত্তিটি একটি উচ্চ তাপমাত্রা ও ক্ষয়কারী কর্মপরিবেশে থাকে। পৃষ্ঠতলটি অবশ্যই সম্পূর্ণরূপে আবৃত থাকতে হবে এবং ভালো সুরক্ষামূলক ভূমিকা পালনের জন্য আবরণটির ঘনত্ব ভালো হতে হবে।
২. পৃষ্ঠতলের ভালো সমতলতা:যেহেতু একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য ব্যবহৃত গ্রাফাইট ভিত্তির পৃষ্ঠতলের অত্যন্ত সমতলতা প্রয়োজন, তাই প্রলেপ প্রস্তুত করার পরেও ভিত্তিটির মূল সমতলতা অবশ্যই বজায় রাখতে হবে, অর্থাৎ প্রলেপের পৃষ্ঠতল অবশ্যই অভিন্ন হতে হবে।
৩. ভালো বন্ধন শক্তি:গ্রাফাইট ভিত্তি এবং আবরণ উপাদানের মধ্যে তাপীয় প্রসারণ সহগের পার্থক্য কমালে উভয়ের মধ্যকার বন্ধন শক্তি কার্যকরভাবে উন্নত করা যায়। উচ্চ ও নিম্ন তাপমাত্রার তাপীয় চক্রের পরেও আবরণটিতে সহজে ফাটল ধরে না।
৪. উচ্চ তাপ পরিবাহিতা:উন্নত মানের চিপ তৈরির জন্য গ্রাফাইট ভিত্তি থেকে দ্রুত ও সুষম তাপ সরবরাহ করা প্রয়োজন, তাই আবরণী উপাদানটির উচ্চ তাপ পরিবাহিতা থাকা উচিত।
৫. উচ্চ গলনাঙ্ক, উচ্চ তাপমাত্রায় জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা:আবরণটিকে উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী কর্ম পরিবেশে স্থিতিশীলভাবে কাজ করতে সক্ষম হতে হবে।
তাপীয় স্থিতিশীলতা, তাপীয় অভিন্নতা এবং অন্যান্য কর্মক্ষমতা পরামিতিSiC প্রলেপযুক্ত গ্রাফাইট সাসসেপ্টরএপিটেক্সিয়াল উপাদানের বৃদ্ধির গুণমানের ক্ষেত্রে এটি একটি নির্ণায়ক ভূমিকা পালন করে, তাই এটি MOCVD যন্ত্রপাতির মূল চাবিকাঠি।
কোটিং হিসেবে β-SiC (3C-SiC) ক্রিস্টাল ফর্ম নির্বাচন করা হয়েছে। অন্যান্য ক্রিস্টাল ফর্মের তুলনায়, এই ক্রিস্টাল ফর্মটির ভালো তাপগতিগত স্থিতিশীলতা, জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতার মতো একাধিক চমৎকার বৈশিষ্ট্য রয়েছে। একই সাথে, এর তাপ পরিবাহিতা মূলত গ্রাফাইটের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ, যা গ্রাফাইট বেসকে বিশেষ বৈশিষ্ট্য প্রদান করে। এটি ব্যবহারের সময় উচ্চ-তাপমাত্রার জারণ ও ক্ষয় এবং পাউডার ক্ষয়ের কারণে গ্রাফাইট বেসের ব্যর্থতা কার্যকরভাবে সমাধান করতে পারে এবং গ্রাফাইট বেসের পৃষ্ঠকে ঘন, ছিদ্রহীন, উচ্চ-তাপমাত্রা সহনশীল, ক্ষয়রোধী, জারণরোধী এবং অন্যান্য বৈশিষ্ট্যসম্পন্ন করে তোলে, যার ফলে গ্রাফাইট বেসের ক্রিস্টাল এপিটেক্সিয়াল গুণমান এবং কার্যকাল উন্নত হয় (SiC কোটিংযুক্ত গ্রাফাইট বেসের কার্যকাল চুল্লিতে পরিমাপ করা হয়)।
উচ্চ তাপমাত্রা ও ক্ষয়রোধী MOCVD গ্রাফাইট ট্রে/সাসেপ্টর কীভাবে নির্বাচন করবেন?
বাছাই করার সময়MOCVD এর জন্য গ্রাফাইট ট্রে বা সাসেপ্টরযা উচ্চ তাপমাত্রার ক্ষয়রোধী, তার জন্য নিম্নলিখিত মূল বিষয়গুলো বিবেচনা করা উচিত:
১. উপাদানের বিশুদ্ধতা:উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট উপাদান উচ্চ তাপমাত্রায় ক্ষয় ও জারণকে আরও ভালোভাবে প্রতিরোধ করতে পারে এবং অধঃক্ষেপণ প্রক্রিয়ার উপর অশুদ্ধির প্রভাব কমাতে পারে।
২. ঘনত্ব ও সচ্ছিদ্রতা:উচ্চ ঘনত্ব ও কম ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট ট্রে-এর যান্ত্রিক শক্তি ও ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা উন্নত, এবং এটি কার্যকরভাবে গ্যাসের অনুপ্রবেশ ও পদার্থের ক্ষয় রোধ করতে পারে।
৩. তাপ পরিবাহিতা:উচ্চ তাপ পরিবাহিতা সম্পন্ন গ্রাফাইট ট্রে তাপকে সুষমভাবে বিতরণ করতে, তাপীয় পীড়ন কমাতে এবং যন্ত্রপাতির স্থিতিশীলতা ও কার্যকাল উন্নত করতে সাহায্য করে।
৪. পৃষ্ঠতল প্রক্রিয়াকরণ:বিশেষ পৃষ্ঠতল প্রক্রিয়াকরণ, যেমন কোটিং বা প্লেটিং করা হলে, গ্রাফাইট প্যালেটগুলির ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা আরও বাড়ানো যেতে পারে।
৫. আকার ও আকৃতি:MOCVD যন্ত্রপাতির নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা অনুসারে, উপযুক্ত আকার ও আকৃতি নির্বাচন করুন, যাতে যন্ত্রপাতির সাথে ট্রে-টির সামঞ্জস্য এবং পরিচালনার সুবিধা নিশ্চিত হয়।
৬. প্রস্তুতকারকের সুনাম:পণ্যের গুণমান ও বিক্রয়োত্তর সেবার নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করতে সুনাম ও সমৃদ্ধ অভিজ্ঞতা সম্পন্ন প্রস্তুতকারক নির্বাচন করুন।
৭. ব্যয়-সাশ্রয়িতা:কারিগরি প্রয়োজনীয়তা পূরণের শর্তে, ব্যয়-সাশ্রয়ীতার কথা বিবেচনা করুন এবং উচ্চতর ব্যয়-দক্ষতা সম্পন্ন পণ্য নির্বাচন করুন।
VET এনার্জি একটি উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট সাসসেপ্টর সরবরাহকারী প্রতিষ্ঠান। আমরা বিভিন্ন ক্যাটাগরির সাসসেপ্টর সরবরাহ করি, যা নানা ব্র্যান্ড, মডেল ও স্পেসিফিকেশনের MOCVD যন্ত্রপাতিতে ব্যবহার করা যায়।SiC প্রলেপযুক্ত গ্রাফাইট সাসসেপ্টরVET এনার্জি দ্বারা উৎপাদিত পণ্যগুলিতে কোনো আবরণের সংযোগস্থল বা দুর্বল অংশ নেই। কার্যকালের দিক থেকে, এগুলি বিভিন্ন চাহিদাসম্পন্ন গ্রাহকদের প্রয়োজন মেটাতে সক্ষম (ক্লোরিনযুক্ত পরিবেশে ব্যবহার সহ), এবং গ্রাহকদের পরামর্শ ও অনুসন্ধানের জন্য স্বাগত জানানো হচ্ছে।
পোস্ট করার সময়: মার্চ-০১-২০২৫