Što je SIC premaz?

Silicijev karbidje tvrdi spoj koji sadrži silicij i ugljik, a u prirodi se nalazi kao izuzetno rijedak mineral moissanit. Čestice silicijevog karbida mogu se povezati sinteriranjem kako bi se formirala vrlo tvrda keramika, koja se široko koristi u primjenama koje zahtijevaju visoku trajnost, posebno u proizvodnji poluvodiča.

Fizička struktura SiC-a

SiC premaz je gusti, otporni premaz silicij-karbida s visokom otpornošću na koroziju i toplinu te izvrsnom toplinskom vodljivošću. Ovaj visokočisti SiC premaz prvenstveno se koristi u poluvodičkoj i elektroničkoj industriji za zaštitu nosača pločica, baza i grijaćih elemenata od korozivnih i reaktivnih okruženja. SiC premaz je također prikladan za vakuumske peći i zagrijavanje uzoraka u visokovakuumskim, reaktivnim i kisikovim okruženjima.

Površina premaza SiC visoke čistoće

Što je postupak nanošenja SiC premaza?

Tanki sloj silicijevog karbida nanosi se na površinu podloge pomoćuCVD (kemijsko taloženje iz parne faze)Taloženje se obično provodi na temperaturama od 1200-1300°C, a toplinsko širenje materijala podloge treba biti kompatibilno s SiC premazom kako bi se smanjilo toplinsko naprezanje.

KRISTALNA STRUKTURA CVD SIC FILMA

CVD SIC premaz KRISTALNA STRUKTURA FILMA

Fizička svojstva SiC premaza uglavnom se ogledaju u njegovoj otpornosti na visoke temperature, tvrdoći, otpornosti na koroziju i toplinskoj vodljivosti.

Tipični fizički parametri su obično sljedeći:

TvrdoćaSiC premaz obično ima Vickersovu tvrdoću u rasponu od 2000-2500 HV, što im daje izuzetno visoku otpornost na habanje i udarce u industrijskim primjenama.

GustoćaSiC premazi obično imaju gustoću od 3,1-3,2 g/cm³. Visoka gustoća doprinosi mehaničkoj čvrstoći i trajnosti premaza.

Toplinska vodljivostSiC premazi imaju visoku toplinsku vodljivost, obično u rasponu od 120-200 W/mK (na 20°C). To im daje dobru toplinsku vodljivost u okruženjima s visokim temperaturama i čini ih posebno prikladnima za opremu za toplinsku obradu u poluvodičkoj industriji.

Točka taljenjaSilicijev karbid ima talište od približno 2730 °C i izvrsnu toplinsku stabilnost na ekstremnim temperaturama.

Koeficijent toplinskog širenjaSiC premazi imaju nizak linearni koeficijent toplinskog širenja (CTE), obično u rasponu od 4,0-4,5 µm/mK (u rasponu od 25-1000℃). To znači da je njihova dimenzijska stabilnost izvrsna pri velikim temperaturnim razlikama.

Otpornost na korozijuSiC premazi su izuzetno otporni na koroziju u jakim kiselim, lužnatim i oksidirajućim okruženjima, posebno pri korištenju jakih kiselina (kao što su HF ili HCl), njihova otpornost na koroziju daleko premašuje onu konvencionalnih metalnih materijala.

SiC podloga za nanošenje premaza

SiC premaz se često koristi za poboljšanje otpornosti na koroziju, otpornosti na visoke temperature i otpornosti na eroziju plazmom podloge. Uobičajene primjene podloga uključuju sljedeće:

Vrsta podloge	Razlog prijave	Tipična upotreba
Grafit	- Lagana struktura, dobra toplinska vodljivost - Ali lako korodira plazmom, zahtijeva zaštitu SiC premazom	Dijelovi vakuumske komore, grafitni čamci, posude za plazma jetkanje itd.
Kvarc (kvarc/SiO₂)	- Visoka čistoća, ali lako korodira - Premaz poboljšava otpornost na plazma eroziju	Dijelovi CVD/PECVD komore
Keramika (kao što je aluminijev oksid Al₂O₃)	- Visoka čvrstoća i stabilna struktura - Premaz poboljšava otpornost površine na koroziju	Obloga komore, učvršćenja itd.
Metali (kao što su molibden, titan itd.)	- Dobra toplinska vodljivost, ali slaba otpornost na koroziju - Premaz poboljšava stabilnost površine	Komponente posebnih reakcija procesa
Sinterirano tijelo od silicijevog karbida (SiC u rasutom stanju)	- Za okruženja s visokim zahtjevima za složene radne uvjete - Premaz dodatno poboljšava čistoću i otpornost na koroziju	Vrhunske komponente CVD/ALD komore

Proizvodi obloženi SiC-om se obično koriste u sljedećim područjima poluvodiča

SiC premazi se široko koriste u obradi poluvodiča, uglavnom u okruženjima visokih temperatura, visoke korozije i jake plazme. U nastavku slijedi nekoliko glavnih procesa ili područja primjene i kratki opisi:

Postupak/područje prijave	Kratak opis	Funkcija premaza silicijevim karbidom
Plazma jetkanje (nagrizanje)	Za prijenos uzoraka koristite plinove na bazi fluora ili klora	Otpornost na eroziju plazmom i sprječavanje kontaminacije česticama i metalom
Kemijsko taloženje iz parne faze (CVD/PECVD)	Taloženje oksidnih, nitridnih i drugih tankih filmova	Otpornost na korozivne prekursorske plinove i produljenje vijeka trajanja komponenti
Komora za fizičko taloženje pare (PVD)	Bombardiranje visokoenergetskim česticama tijekom procesa premazivanja	Poboljšajte otpornost na eroziju i otpornost na toplinu reakcijske komore
MOCVD proces (kao što je epitaksijalni rast SiC-a)	Dugotrajna reakcija pod visokom temperaturom i korozivnom atmosferom s visokim udjelom vodika	Održavajte stabilnost opreme i spriječite kontaminaciju rastućih kristala
Proces toplinske obrade (LPCVD, difuzija, žarenje itd.)	Obično se provodi na visokoj temperaturi i u vakuumu/atmosferi	Zaštitite grafitne brodiće i posude od oksidacije ili korozije
Nosač/stezaljka za pločice (Rukovanje pločicama)	Grafitna baza za prijenos ili potporu pločice	Smanjite otpuštanje čestica i izbjegnite kontaktnu kontaminaciju
Komponente ALD komore	Ponavljano i precizno kontrolirati taloženje atomskog sloja	Premaz održava komoru čistom i ima visoku otpornost na koroziju uzrokovanu prekursorima

Zašto odabrati VET Energy?

VET Energy je vodeći proizvođač, inovator i lider u proizvodnji SiC premaza u Kini, a glavni proizvodi SiC premaza uključujunosač pločice s SiC premazom, SiC premazepitaksijalni susceptor, Grafitni prsten obložen SiC-om, Polumjesečasti dijelovi sa SiC premazom, Ugljik-ugljikov kompozit obložen SiC-om, SiC obloženi čamac od pločice, Grijač obložen SiC-omitd. VET Energy posvećen je pružanju vrhunske tehnologije i rješenja za proizvode poluvodičkoj industriji te podržava usluge prilagodbe. Iskreno se radujemo što ćemo biti vaš dugoročni partner u Kini.