Epitaxiális epitaxiális grafit hordó szuszceptor

Epitaxiális epitaxiális grafit hordó szuszceptor

Epitaxiális epitaxiális grafit hordó szuszceptoregy speciálisan tervezett tartó- és fűtőberendezés, amelyet félvezető szubsztrátok tartására és melegítésére használnak olyan gyártási folyamatok során, mint a leválasztás vagy az epitaxiális eljárások.

Szerkezete jellemzően hengeres vagy enyhén hordó alakú, felülete több zsebbel vagy platformmal rendelkezik az ostyák elhelyezéséhez, és a melegítési módtól függően lehet tömör vagy üreges kialakítású.

Az epitaxiális hordószuszceptor fő funkciói:

1. Ostyatartó és hőmérséklet-szabályozás
A szuszceptor felülete több lapkafészekkel van kialakítva (például hatszögletű vagy nyolcszögletű elrendezésben), amelyek egyszerre 6-15 lapkát képesek befogadni. A nagy tisztaságú grafit magas hővezető képessége (120-150 W/mK) gyors hőátadást biztosít, a forgatási funkcióval (5-20 RPM) kombinálva, ami ± 1 ℃-nál kisebb lapkafelületi hőmérséklet-eltérést és <1%-os epitaxiális rétegvastagság-egyenletességet eredményez.

2. A reaktáns gáz áramlási irányának optimalizálása
A szuszceptor felületének mikroszerkezete képes megtörni a határréteg-hatást, lehetővé téve a reakciógázok (például SiH4, NH3) egyenletes eloszlását és javítva a lerakódási sebesség állandóságát.

3. Szennyeződés- és korrózióvédelem
A grafit aljzatok hajlamosak a bomlásra és magas hőmérsékleten fémszennyeződéseket (például Fe, Ni) szabadítanak fel, míg egy 100 μm vastag CVD SiC bevonat sűrű gátat képezhet a grafit illékonyságának elnyomására, ami <0,1 hiba/cm² ostyahibaarányt eredményez.

Alkalmazások:
-Elsősorban szilícium epitaxiális növekedéshez használják
-Más félvezető anyagok, például GaAs, InP stb. epitaxiájához is alkalmazható.

A VET Energy nagy tisztaságú grafitot használ CVD-SiC bevonattal a kémiai stabilitás fokozása érdekében:

1. Nagy tisztaságú grafit anyag
Magas hővezető képesség: a grafit hővezető képessége háromszorosa a szilíciuménak, ami gyorsan átviheti a hőt a fűtőforrásból az ostyára, és lerövidíti a melegítési időt.
Mechanikai szilárdság: Izosztatikus nyomású grafit sűrűsége ≥ 1,85 g/cm³, képes ellenállni az 1200 ℃ feletti magas hőmérsékletnek deformáció nélkül.

2. CVD SiC bevonat
A grafit felületén kémiai gőzfázisú leválasztással (CVD) β-SiC réteget képeznek, amelynek tisztasága ≥ 99,99995%, a bevonat vastagságának egyenletességi hibája kisebb, mint ±5%, a felületi érdesség pedig kisebb, mint Ra0,5 μm.

3. Teljesítménynövelés:
Korrózióállóság: ellenáll a magas korrozív gázoknak, például a Cl2-nek, HCl-nek stb., és a GaN epitaxia élettartamát háromszorosára növelheti NH3 környezetben.
Hőstabilitás: A hőtágulási együttható (4,5 × 10-6/℃) megegyezik a grafitéval, hogy elkerülje a hőmérséklet-ingadozások okozta bevonatrepedést.
Keménység és kopásállóság: A Vickers-keménység eléri a 28 GPa-t, ami tízszer nagyobb, mint a grafité, és csökkentheti a lapka karcolódásának kockázatát.