Epitaksialni Epi Graphite Barrel Susceptor

Epitaksialni Epi Graphite Barrel Susceptor

Epitaksialni Epi Graphite Barrel Susceptorje posebej zasnovana podporna in grelna naprava, ki se uporablja za držanje in segrevanje polprevodniških substratov med proizvodnimi procesi, kot sta nanašanje ali epitaksija.

Njegova struktura je običajno valjasta ali rahlo sodčasta, površina pa ima več žepov ali ploščadi za postavitev rezin, lahko pa je trdna ali votla, odvisno od načina segrevanja.

Glavne funkcije epitaksialnega sodnega susceptorja:

1. Nosilec za rezine in nadzor temperature
Površina susceptorja je zasnovana z več žepi za rezine (na primer šesterokotno ali osmerokotno razporeditev), ki lahko hkrati podpirajo 6–15 rezin. Visoka toplotna prevodnost visoko čistega grafita (120–150 W/mK) zagotavlja hiter prenos toplote, v kombinaciji z rotacijsko funkcijo (5–20 vrt/min), kar ima za posledico odstopanje temperature površine rezine < ± 1 ℃ in enakomernost debeline epitaksialne plasti < 1 %.

2. Optimizacija smeri pretoka reaktantov
Mikrostruktura površine susceptorja lahko prekine učinek mejne plasti, kar omogoča enakomerno porazdelitev reakcijskih plinov (kot sta SiH4, NH3) in izboljša doslednost hitrosti nanašanja.

3. Zaščita pred onesnaženjem in korozijo
Grafitni substrati so nagnjeni k razgradnji in sproščajo kovinske nečistoče (kot sta Fe, Ni) pri visokih temperaturah, medtem ko lahko 100 μm debela CVD SiC prevleka tvori gosto pregrado za preprečevanje izhlapevanja grafita, kar povzroči stopnjo napak na rezini <0,1 napake/cm².

Uporaba:
-Uporablja se predvsem za epitaksialno rast silicija
-Uporabno tudi za epitaksijo drugih polprevodniških materialov, kot so GaAs, InP itd.

VET Energy uporablja grafit visoke čistosti s CVD-SiC prevleko za izboljšanje kemijske stabilnosti:

1. Visoko čist grafitni material
Visoka toplotna prevodnost: toplotna prevodnost grafita je trikrat večja od silicija, kar omogoča hiter prenos toplote iz vira ogrevanja na rezino in skrajšanje časa ogrevanja.
Mehanska trdnost: Gostota grafita pri izostatičnem tlaku ≥ 1,85 g/cm³, sposoben prenesti visoke temperature nad 1200 ℃ brez deformacije.

2. CVD SiC prevleka
Na površini grafita se s kemičnim nanašanjem iz pare (CVD) tvori plast β-SiC s čistostjo ≥ 99,99995 %, napaka enakomernosti debeline prevleke je manjša od ± 5 %, hrapavost površine pa je manjša od Ra0,5 μm.

3. Izboljšanje delovanja:
Odpornost proti koroziji: lahko prenese visoko korozivne pline, kot so Cl2, HCl itd., lahko v okolju NH3 podaljša življenjsko dobo GaN epitaksije za trikrat.
Termična stabilnost: Koeficient toplotnega raztezanja (4,5 × 10-6/℃) se ujema z grafitnim, da se prepreči razpokanje prevleke zaradi temperaturnih nihanj.
Trdota in odpornost proti obrabi: Vickersova trdota doseže 28 GPa, kar je 10-krat več kot pri grafitu in lahko zmanjša tveganje za praske na rezinah.