Epitaksial Epi Grafit Barrel Suseptor

Gysgaça düşündiriş:

“VET Energy” kompaniýasy ýokary arassa grafit barrel susseptorynyň ylmy-barlag işlerine we önümçiligine ünsi jemleýär. Garaşsyz CVD örtük tehnologiýasy arkaly susseptor grafidiň ýokary ýylylyk geçirijiligini SiC-niň oksidlenme garşylygy bilen birleşdirýär we 1600 ℃ ýokary temperaturada durnukly işläp bilýär, ömrüni üç esseden gowrak uzaldýar.

 

 


Önümiň jikme-jiklikleri

Önümiň tegleri

Epitaksial Epi Grafit Barrel Suseptor

Epitaksial Epi Grafit Barrel SuseptorÇökdürme ýa-da Epitaksiýa prosesleri ýaly önümçilik proseslerinde ýarymgeçiriji substratlary saklamak we gyzdyrmak üçin ulanylýan ýörite dizaýn edilen goldaw we gyzdyryjy enjamdyr.

Onuň gurluşy adatça silindrik ýa-da biraz barrel şekilli, ýüzü plastinalary goýmak üçin köp sanly jübi ýa-da platformalary öz içine alýar we gyzdyryş usulyna baglylykda berk ýa-da boş dizaýn bolup biler.

Epitaksial barrel susseptorynyň esasy funksiýalary:

1. Wafer göteriji we temperatura gözegçiligi
Suseptoryň ýüzi bir wagtyň özünde 6-15 waferi saklap bilýän birnäçe wafer jübüleri (meselem, altyburçluk ýa-da sekizburçluk düzüliş) bilen dizaýn edilen. Ýokary arassa grafidiň ýokary ýylylyk geçirijiligi (120-150W/mK) aýlanma funksiýasy (5-20 RPM) bilen utgaşdyrylyp, ýylylygyň çalt geçirilmegini üpjün edýär, netijede waferiň ýüzi temperaturasynyň <± 1 ℃ we epitaksial gatlagyň galyňlygynyň deňligi <1% bolýar.

2. Reaksiýa girýän gaz akymynyň ugruny optimizirlemek
Suseptor ýüzüniň mikrostrukturasy serhet gatlagynyň täsirini bozup, reaksiýa gazlarynyň (SiH4, NH3 ýaly) deň paýlanmagyna we çökündi tizliginiň yzygiderliligini ýokarlandyrmaga mümkinçilik berýär.

3. Hapalanmaga we korroziýa garşy gorag
Grafit substratlary ýokary temperaturada parçalanmaga we metal garyndylaryny (meselem, Fe, Ni) çykarmaga meýilli, 100μm galyňlykdaky CVD SiC örtügi bolsa grafitiň uçujylygynyň öňüni almak üçin dykyz päsgelçilik döredip biler, bu bolsa grafitiň kemçilik tizliginiň <0.1 kemçilik/sm² bolmagyna getirýär.

Ulanyşlar:
-Esasan kremniý epitaksial ösüşi üçin ulanylýar
-Şeýle hem GaAs, InP we ş.m. ýaly beýleki ýarymgeçiriji materiallaryň epitaksiýasy üçin ulanylýar.

“VET Energy” himiki durnuklylygy ýokarlandyrmak üçin CVD-SiC örtügi bilen ýokary arassa grafiti ulanýar:

1. Ýokary arassa grafit materialy
Ýokary ýylylyk geçirijiligi: grafidiň ýylylyk geçirijiligi kremniýiňkiden üç esse ýokary, bu bolsa ýylylygy gyzdyryjy çeşmeden plastinka çalt geçirip, gyzdyrma wagtyny gysgaldyp bilýär.
Mehaniki berkligi: Izostatik basyşly grafit dykyzlygy ≥ 1.85 g/sm³, 1200 ℃-den ýokary ýokary temperatura deformasiýasyz çydap bilýär.

2. CVD SiC örtügi
Grafitiň ýüzünde himiki bug çökündisi (CVD) arkaly β-SiC gatlagy emele gelýär, arassalygy ≥ 99.99995%, örtügiň galyňlygynyň deňlik ýalňyşlygy ± 5% -den az, ýüzüniň büdür-südürligi bolsa Ra0.5um-den az.

3. Işiň netijeliligini ýokarlandyrmak:
Korroziýa garşylygy: Cl2, HCl we ş.m. ýaly ýokary korroziýa gazlaryna çydap bilýär, NH3 gurşawynda GaN epitaksiýasynyň ömrüni üç esse uzaldyp bilýär.
Termal durnuklylyk: Termal giňelme koeffisiýenti (4.5 × 10-6/℃) temperatura üýtgemeleri sebäpli örtük çatlamasynyň öňüni almak üçin grafite deňleşýär.
Gatylyk we aşynma garşylygy: Wickers gatylygy 28 GPa-a ýetýär, bu bolsa grafitden 10 esse ýokary we wafer çyzyklarynyň töwekgelçiligini azaldyp biler.

 

Barrel susceptor (10)
SiC Barrel Susseptory

Ýürek-damar keselleri SiC薄膜基本物理性能

CVD SiC-niň esasy fiziki häsiýetleriörtük

性质 / Emläk

典型数值 / Adaty gymmatlyk

晶体结构 / Kristal gurluşy

FCC β fazasy多晶,主要为(111 )取向

密度 / Dykyzlyk

3.21 g/sm³

硬度 / Gatylyk

2500 维氏硬度( 500g ýük)

晶粒大小 / Däne SiZe

2~10μm

纯度 / Himiki arassalyk

99.99995%

热容 / Ýylylyk kuwwaty

640 J·kg-1·K-1

升华温度 / Sublimasiýa temperaturasy

2700℃

抗弯强度 / Bükülme güýji

415 MPa RT 4-nokat

杨氏模量 / Ýaşyň moduly

430 Gpa 4pt bükülme, 1300℃

导热系数 / TermalGeçirijilik

300W·m-1·K-1

热膨胀系数 / Termal giňelme (CTE)

4.5×10-6K-1

1
2

“Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd” kompaniýasy ýokary derejeli öňdebaryjy materiallaryň, şol sanda grafit, kremniý karbidi, keramika, SiC örtügi, TaC örtügi, aýna ýaly uglerod örtügi, pirolitik uglerod örtügi ýaly ýüzleý işlemeleriň we tehnologiýalaryň işlenip düzülmegine we öndürilmegine gönükdirilen ýokary tehnologiýaly kärhana bolup, bu önümler fotowoltaik, ýarymgeçiriji, täze energiýa, metallurgiýa we ş.m. pudaklarda giňden ulanylýar.

Biziň tehniki toparymyz ýerli öňdebaryjy ylmy-barlag edaralaryndan gelip çykýar we önümiň netijeliligini we hilini üpjün etmek üçin köp sanly patentlenen tehnologiýalary işläp düzdi, şeýle hem müşderilere professional material çözgütlerini hödürläp biler.

Müşderiler

  • Öňki:
  • Indiki:

  • WhatsApp-da onlaýn söhbetdeşlik!