Эпитаксиаль Эпи Графит Баррель Суссепторы

Кыскача тасвирлама:

VET Energy югары чисталыктагы графит мичкәле сусепторларын тикшерү һәм җитештерүгә игътибар итә, бәйсез CVD каплау технологиясе ярдәмендә, сусептор графитның югары җылылык үткәрүчәнлеген SiC оксидлашуга каршы торучанлыгы белән берләштерә һәм 1600 ℃ югары температурада тотрыклы эшли ала, хезмәт итү вакыты өч тапкырдан артыкка арта.

 

 


Продукт детальләре

Продукт теглары

Эпитаксиаль Эпи Графит Баррель Суссепторы

Эпитаксиаль Эпи Графит Баррель Суссепторы- җитештерү процесслары вакытында, мәсәлән, депозиция яки эпитаксия процесслары вакытында ярымүткәргеч субстратларны тоту һәм җылыту өчен кулланыла торган махсус эшләнгән терәк һәм җылыту җайланмасы.

Аның структурасы гадәттә цилиндрик яки бераз мичкә формасындагы, өслеге пластиналарны урнаштыру өчен берничә кесә яки платформа белән аерылып тора, җылыту ысулына карап, каты яки куыш конструкцияле булырга мөмкин.

Эпитаксиаль мичкә сусцепторының төп функцияләре:

1. Вафли ташучы һәм температураны контрольдә тоту
Сусептор өслеге берничә пластина кесәсе белән эшләнгән (мәсәлән, алты почмаклы яки сигез почмаклы урнаштыру), алар бер үк вакытта 6-15 пластинаны тота ала. Югары чисталыктагы графитның югары җылылык үткәрүчәнлеге (120-150 Вт/мК) әйләнү функциясе (5-20 RPM) белән берлектә җылылыкның тиз күчүен тәэмин итә, нәтиҗәдә пластина өслеге температурасының тайпылышы <± 1 ℃ һәм эпитаксиаль катлам калынлыгының тигезлеге <1% тәшкил итә.

2. Реагент газ агымы юнәлешен оптимальләштерү
Сусцептор өслегенең микроструктурасы чик катламы эффектын боза ала, реакция газларының (мәсәлән, SiH4, NH3) тигез таралуын тәэмин итә һәм утыру тизлегенең тотрыклылыгын яхшырта.

3. Пычрануга һәм коррозиягә каршы саклау
Графит субстратлары югары температурада таркалуга бирешәләр һәм металл катнашмаларын (мәсәлән, Fe, Ni) чыгаралар, ә 100 мкм калынлыктагы CVD SiC каплавы графитның парлануын бастыру өчен тыгыз киртә булдыра ала, нәтиҗәдә пластина дефектлары күрсәткече <0,1 дефект/см² тәшкил итә.

Кушымталар:
-Нигездә, кремний эпитаксиаль үсеше өчен кулланыла
-Шулай ук ​​GaAs, InP һ.б. кебек башка ярымүткәргеч материалларның эпитаксиясе өчен дә кулланыла.

VET Energy компаниясе химик тотрыклылыкны арттыру өчен CVD-SiC каплавы белән югары сафлыклы графит куллана:

1. Югары сафлыклы графит материалы
Югары җылылык үткәрүчәнлеге: графитның җылылык үткәрүчәнлеге кремнийныкыннан өч тапкыр артыграк, ул җылылык чыганагыннан пластинага тиз күчә һәм җылыту вакытын кыскарта ала.
Механик ныклык: Изостатик басымлы графит тыгызлыгы ≥ 1,85 г/см³, 1200 ℃ тан югары температураларга деформациясез чыдам.

2. CVD SiC каплавы
Графит өслегендә химик пар белән утырту (CVD) ярдәмендә β-SiC катламы барлыкка килә, аның сафлыгы ≥ 99.99995%, каплау калынлыгының тигезлек хатасы ±5% тан кимрәк, ә өслекнең тигезсезлеге Ra0.5um тан кимрәк.

3. Эш нәтиҗәлелеген яхшырту:
Коррозиягә чыдамлык: Cl2, HCl һ.б. кебек югары коррозик газларга чыдам, NH3 мохитендә GaN эпитаксиясенең гомерен өч тапкыр озайта ала.
Термик тотрыклылык: Термик киңәю коэффициенты (4.5 × 10-6/℃) температура тирбәнешләре аркасында каплау ярылуыннан саклану өчен графит белән туры килә.
Катылык һәм тузуга чыдамлык: Виккерс катылыгы 28 ГПа га җитә, бу графиттан 10 тапкыр югарырак һәм пластина тырналу куркынычын киметә ала.

 

Мичкәле сусцептор (10)
SiC Barrel Susceptor

йөрәк-кан тамырлары авырулары SiC薄膜基本物理性能

CVD SiC төп физик үзлекләрекаплау

性质 / Милек

典型数值 / Гадәти кыйммәт

晶体结构 / Кристалл структурасы

FCC β фазасы多晶,主要为(111 )取向

密度 / Тыгызлык

3,21 г/см³

硬度 / Катылык

2500 维氏硬度( 500г йөк)

晶粒大小 / Бөртек SiZe

2~10 мкм

纯度 / Химик чисталык

99.99995%

热容 / Җылылык сыйдырышлыгы

640 Дж·кг-1·К-1

升华温度 / Сублимация температурасы

2700℃

抗弯强度 / Бөгелү көче

415 МПа RT 4 нокталы

杨氏模量 / Янг модуле

430 ГПа 4pt бөкләнеш, 1300℃

导热系数 / ТермалҮткәргечлек

300 Вт·м-1·К-1

热膨胀系数 / Җылылык киңәюе (CTE)

4.5×10-6K-1

1
2

Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd - югары технологияле алдынгы материаллар эшләү һәм җитештерүгә юнәлтелгән югары технологияле предприятие, графит, кремний карбиды, керамика, SiC каплавы, TaC каплавы, пыяла углерод каплавы, пиролитик углерод каплавы һ.б. кебек өслек эшкәртү материаллары һәм технологияләре. Бу продуктлар фотоэлектрик, ярымүткәргечләр, яңа энергетика, металлургия һ.б. өлкәләрдә киң кулланыла.

Безнең техник команда алдынгы илкүләм тикшеренү институтларыннан килә һәм продуктның нәтиҗәлелеген һәм сыйфатын тәэмин итү өчен күп патентланган технологияләр эшләде, шулай ук ​​клиентларга профессиональ материал чишелешләре тәкъдим итә ала.

Клиентлар

  • Алдагысы:
  • Киләсе:

  • WhatsApp онлайн чаты!