Epitaksial epi grafit barrel ushlagichi

Epitaksial epi grafit barrel ushlagichi

Epitaksial epi grafit barrel ushlagichiCho'kma yoki Epitaksiya jarayonlari kabi ishlab chiqarish jarayonlarida yarimo'tkazgichli substratlarni ushlab turish va isitish uchun ishlatiladigan maxsus mo'ljallangan qo'llab-quvvatlash va isitish moslamasi.

Uning tuzilishi odatda silindrsimon yoki bir oz barrel shaklidagi, sirt xususiyatlari gofretlarni joylashtirish uchun bir nechta cho'ntaklar yoki platformalarni o'z ichiga oladi, isitish usuliga qarab qattiq yoki ichi bo'sh dizayn bo'lishi mumkin.

Epitaksial barrel sezgichining asosiy funktsiyalari:

1. Gofret tashuvchisi va haroratni nazorat qilish
Sutseptor yuzasi bir vaqtning o'zida 6-15 ta gofretni qo'llab-quvvatlaydigan bir nechta gofret cho'ntaklari (masalan, olti burchakli yoki sakkiz burchakli joylashuv) bilan yaratilgan. Yuqori tozalikdagi grafitning yuqori issiqlik o'tkazuvchanligi (120-150 Vt / mK) aylanish funktsiyasi (5-20 RPM) bilan birgalikda tez issiqlik o'tkazuvchanligini ta'minlaydi, buning natijasida gofret yuzasi harorati <± 1 ℃ ga va epitaksial qatlam qalinligining bir xilligi <1% ga olib keladi.

2. Reaktiv gaz oqimi yo'nalishini optimallashtirish
Sutseptor yuzasining mikro tuzilishi reaksiya gazlarini (masalan, SiH4, NH3) bir tekis taqsimlash va cho'kish tezligining mustahkamligini yaxshilash imkonini beruvchi chegara qatlami effektini buzishi mumkin.

3. Ifloslanishga qarshi va korroziyaga qarshi himoya
Grafit substratlar yuqori haroratlarda parchalanish va metall aralashmalarini (masalan, Fe, Ni) chiqarishga moyil bo'lib, 100 mkm qalinlikdagi CVD SiC qoplamasi grafitning uchuvchanligini bostirish uchun zich to'siq hosil qilishi mumkin, natijada gofret nuqsoni darajasi<0,1 defekt/sm² ni tashkil qiladi.

Ilovalar:
-Asosan kremniy epitaksial o'sishi uchun ishlatiladi
- GaAs, InP va boshqalar kabi boshqa yarimo'tkazgichli materiallarning epitaksisi uchun ham amal qiladi.

VET Energy kimyoviy barqarorlikni oshirish uchun CVD-SiC qoplamali yuqori toza grafitdan foydalanadi:

1. Yuqori tozalikdagi grafit materiali
Yuqori issiqlik o'tkazuvchanligi: grafitning issiqlik o'tkazuvchanligi kremniynikidan uch barobar ko'p, issiqlikni isitish manbasidan gofretga tezda o'tkazishi va isitish vaqtini qisqartirishi mumkin.
Mexanik quvvat: Izostatik bosim grafit zichligi ≥ 1,85 g/sm³, deformatsiyasiz 1200 ℃ dan yuqori haroratlarga bardosh bera oladi.

2. CVD SiC qoplamasi
B - SiC qatlami grafit yuzasida kimyoviy bug'larning cho'kishi (CVD) bilan hosil bo'ladi, tozaligi ≥ 99,99995%, qoplama qalinligining bir xillik xatosi ±5% dan kam, sirt pürüzlülüğü Ra0,5um dan kam.

3. Ishlash samaradorligini oshirish:
Korroziyaga chidamlilik: Cl2, HCl va boshqalar kabi yuqori korroziy gazlarga bardosh bera oladi, NH3 muhitida GaN epitaksisining ishlash muddatini uch barobarga uzaytirishi mumkin.
Issiqlik barqarorligi: Issiqlik kengayish koeffitsienti (4,5 × 10-6 / ℃) harorat o'zgarishi natijasida yuzaga keladigan qoplama yorilishiga yo'l qo'ymaslik uchun grafitga mos keladi.
Qattiqlik va aşınma qarshiligi: Vickers qattiqligi 28 GPa ga etadi, bu grafitdan 10 baravar yuqori va gofret tirnalgan xavfini kamaytirishi mumkin.