O le ā le sic coating?

Silikoni KarbidaO se fa'aputuga malo o lo'o i ai le silicon ma le carbon, ma e maua i le natura o le minerale e seasea maua o le moissanite. E mafai ona fa'apipi'i fa'atasi vaega o le silicone carbide e ala i le sintering e fausia ai ni keramika malo tele, lea e fa'aaogaina lautele i galuega e mana'omia ai le tumau maualuga, aemaise lava i le fa'agasologa o semiconductor.

Fausaga faaletino o le SiC

O le ā le SiC Coating?

O le ufiufi SiC o se ufiufi silicon carbide mafiafia ma e tete'e atu i le ofuina, e maualuga le tete'e atu i le 'ele ma le vevela ma e sili ona lelei le fa'avevela. O lenei ufiufi SiC mama e fa'aaogaina tele i pisinisi semiconductor ma eletise e puipuia ai mea e feavea'i ai le uamea, fa'avae ma elemene fa'avevela mai siosiomaga 'ele ma le gaioi. E talafeagai fo'i le ufiufi SiC mo ogaumu gaogao ma le fa'avevela o fa'ata'ita'iga i siosiomaga gaogao maualuga, gaioi ma le okesene.

Ogaumu ufiufi SiC mama maualuga

O le ā le faiga o le ufiufiina o le SiC?

O se vaega manifinifi o le silicon carbide e fa'apipi'i i luga o le fogāeleele e fa'aaoga aiCVD (Fa'aputuga o le Ausa Fa'akemikolo)O le fa'aputuina e masani ona faia i le vevela o le 1200-1300°C ma o le amioga fa'alauteleina o le vevela o le mea fa'avae e tatau ona fetaui ma le ufiufi SiC e fa'aitiitia ai le atuatuvalega fa'avevela.

FA'ATULAGA KRISTALA O LE ATASIGA SIC CVD

FA'ATULAGA KRISTALA O LE ATA UA UFIUFI SIC CVD

O meatotino faaletino o le ufiufi SiC e atagia tele lava i lona tete'e atu i le vevela maualuga, ma'a'a, tete'e atu i le 'ele ma le fa'avevela.

O fa'ailoga masani fa'aletino e masani lava ona fa'apea:

FaigataO le ufi SiC e masani ona i ai se Vickers Hardness i le va o le 2000-2500 HV, lea e matua maualuga ai lo latou tete'e atu i le ofuina ma le a'afiaga i galuega fa'apisinisi.

MafiafiaO vali SiC e masani ona i ai le mafiafia i le va o le 3.1-3.2 g/cm³. O le mafiafia tele e fesoasoani i le malosi fa'amekanika ma le tumau o le vali.

Fa'avevela o le eletiseO vali SiC e maualuga le fa'avevela o le eletise, e masani lava i le va o le 120-200 W/mK (i le 20°C). O lenei mea e maua ai le fa'avevela lelei i siosiomaga vevela maualuga ma e matua talafeagai ai mo masini e togafitia ai le vevela i le alamanuia semiconductor.

Tulaga e liusuavai aiO le silicon carbide e iai lona tulaga liusuavai e tusa ma le 2730°C ma e matua mautu lelei i le vevela tele.

Fa'atusatusaga o le Fa'alauteleina o le VevelaO vali SiC e maualalo le fua fa'atatau o le fa'alauteleina o le vevela (CTE), e masani lava i le va o le 4.0-4.5 µm/mK (i le 25-1000℃). O lona uiga o lona mautu i le tele o eseesega o le vevela e sili ona lelei.

Tete'e i le 'eleE matuā tete'e atu lava vali SiC i le 'ele i siosiomaga 'āsito malolosi, 'āsito ma siosiomaga fa'a'okesaita, aemaise lava pe a fa'aogaina 'āsito malolosi (e pei o le HF po'o le HCl), e sili atu lo latou tete'e atu i le 'ele nai lo mea u'amea masani.

O le mea e fa'aoga ai le ufiufi SiC

E masani ona faʻaaogaina le ufiufi SiC e faʻaleleia atili ai le teteʻe atu i le 'ele, teteʻe atu i le vevela maualuga, ma le teteʻe atu i le soloia o le plasma o le substrate. O substrates masani e aofia ai mea nei:

Ituaiga o le substrate	Mafua'aga o le talosaga	Fa'aoga masani
Kalafite	- Fausaga mama, lelei le fa'avevela - Ae faigofie ona 'ele'elea e le plasma, e mana'omia ai le puipuiga o le ufiufi SiC	Vaega o le potu e fa'aogaina ai le vacuum, va'a graphite, fata e fai ai le plasma etching, ma isi mea fa'apena.
Kuata (Kuata/SiO₂)	- Mama maualuga ae faigofie ona pala - E fa'amalosia e le ufiufi le tete'e atu i le soloia o le plasma	Vaega o le potu CVD/PECVD
Omea (e pei o le alumina Al₂O₃)	- Malosi maualuga ma le fausaga mautu - E fa'aleleia e le vali le tete'e atu i le 'ele o luga	O le ufi o le potu, mea fa'apipi'i, ma isi mea fa'apena.
uʻamea (e pei o le molybdenum, titanium, ma isi)	- Lelei le fa'avevela ae le lelei le tete'e atu i le 'ele'ele - E fa'aleleia e le ufiufi le mautu o luga	Vaega fa'apitoa o le tali atu i le faagasologa
Tino ua fa'apipi'iina i le silicon carbide (SiC bulk)	- Mo siosiomaga e maualuga manaʻoga mo tulaga faigata o galuega - E fa'aleleia atili e le ufiufi le mama ma le tete'e atu i le 'ele	Vaega maualuga o le potu CVD/ALD

O oloa ua ufiina i le SiC e masani ona faʻaaogaina i vaega nei o semiconductor

O oloa ufiufi SiC e faʻaaogaina lautele i le gaosiga o semiconductor, aemaise lava i le vevela maualuga, ele maualuga ma siosiomaga plasma malolosi. O loʻo mulimuli mai ni nai faʻagasologa tetele o faʻaoga poʻo fanua ma faʻamatalaga pupuu:

Faiga o talosaga/fanua	Fa'amatalaga pu'upu'u	Galuega Fa'apipi'i o le Silicon Carbide
Fa'a'ofuina o le plasma (Va'ofuina)	Faaaoga kasa e fa'avae i le fluorine po'o le chlorine mo le fesiitaiga o mamanu	Tetee atu i le soloia o le plasma ma puipuia le faaleagaina o vaega laiti ma u'amea
Fa'aputuga o le ausa vaila'au (CVD/PECVD)	Fa'aputuga o le oxide, nitride ma isi ata manifinifi	Tetee atu i kasa fa'asolosolo e fa'aleagaina ma fa'ateleina le umi e ola ai le vaega
Potu fa'aputuga ausa fa'aletino (PVD)	Fa'apa'uina o vaega malolosi i le taimi o le fa'agasologa o le ufiufi	Fa'aleleia le tete'e atu i le soloia ma le tete'e atu i le vevela o le potu tali atu
Fa'agasologa o le MOCVD (e pei o le tuputupu a'e epitaxial o le SiC)	Tali atu mo se taimi umi i lalo o le vevela maualuga ma le ea e fa'aleagaina e le haitorosene maualuga	Tausia le mautu o meafaigaluega ma puipuia le faʻaleagaina o tioata o loʻo tuputupu aʻe
Faiga o togafitiga i le vevela (LPCVD, fa'asalalauina, fa'amafanafana, ma isi)	E masani ona faia i le vevela maualuga ma le ea gaogao/ea	Puipui va'a ma fata o le graphite mai le oxidation po'o le ele
Mea e feavea'i ai le uamea (Taulimaina o le uamea)	Fa'avae kalafi mo le fesiita'iga o le wafer po'o le lagolago	Fa'aitiitia le fa'ama'a'aina o vaega ma 'alo'ese mai le fa'aleagaina o le pa'i atu
Vaega o le potu ALD	Pulea soo ma le sa'o le teuina o le vaega o le atomika	E tausia e le ufiufi le mama o le potu ma e maualuga le tete'e atu i mea e fa'aleagaina ai le ea

Aiseā e filifili ai le VET Energy?

O le VET Energy o se kamupani gaosi oloa taʻimua, o se tagata fou ma o se taʻitaʻi o oloa vali SiC i Saina, o oloa vali SiC autu e aofia aimea e feavea'i ai le apa ma le ufiufi SiC, ua ufiufi i le SiCle fa'aoso epitaxial, Mama karapiti ua ufiufiina i le SiC, Vaega afa-masina ma le ufiufi SiC, Fa'aputuga kaponi-karponi ua ufiufia i le SiC, Va'a wafer ufiufi SiC, Fa'avevela ua ufiufiina i le SiC, ma isi. Ua tautino atu le VET Energy e tuʻuina atu i le alamanuia semiconductor tekonolosi sili ona lelei ma fofo oloa, ma lagolagoina auaunaga faʻapitoa. Matou te tulimatai atu ma le faʻamaoni e avea ma au paʻaga tumau i Saina.