Piedistalli cumunimenti usati per l'epitassia in fase vapore

Durante u prucessu di epitaxia in fase vapore (VPE), u rolu di u pedestal hè di sustene u sustratu è di assicurà un riscaldamentu uniforme durante u prucessu di crescita. Diversi tipi di pedestal sò adatti per diverse cundizioni di crescita è sistemi di materiali. I seguenti sò alcuni di i tipi di pedestal cumunemente usati in fase vapore.epitaxia:

Piedistallu di botte

I piedistalli di botte sò cumunamente usati in sistemi di epitaxia in fase vapore orizzontale o inclinata. Puderanu sustene u sustratu è permette à u gasu di scorrere sopra u sustratu, ciò chì aiuta à ottene una crescita epitassiale uniforme.

Piedistallu in forma di discu (piedistallu verticale)

I piedistalli in forma di discu sò adatti per i sistemi di epitaxia in fase di vapore verticale, in i quali u sustratu hè piazzatu verticalmente. Stu cuncepimentu aiuta à riduce l'area di cuntattu trà u sustratu è u suscettore, riducendu cusì a perdita di calore è a putenziale contaminazione.

Suscettore orizzontale

I suscettori urizzuntali sò menu cumuni in l'epitassia in fase di vapore, ma ponu esse aduprati in certi sistemi di crescita specifichi per permette a crescita epitassiale in una direzzione urizzuntale.

Suscettore di reazione epitassiale monoliticu

U suscettore di reazione epitassiale monoliticu hè cuncipitu per un unicu sustratu, chì pò furnisce un cuntrollu di temperatura più precisu è un megliu isolamentu termicu, adattatu per a crescita di strati epitassiali di alta qualità.

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