Lors du procédé d'épitaxie en phase vapeur (VPE), le rôle du piédestal est de soutenir le substrat et d'assurer un chauffage uniforme pendant la croissance. Différents types de piédestals sont adaptés à différentes conditions de croissance et à différents systèmes de matériaux. Voici quelques-uns des types de piédestals les plus couramment utilisés en phase vapeur.épitaxie:
Piédestal de baril
Les socles cylindriques sont couramment utilisés dans les systèmes d'épitaxie en phase vapeur horizontaux ou inclinés. Ils maintiennent le substrat et permettent au gaz de circuler sur celui-ci, contribuant ainsi à une croissance épitaxiale uniforme.
Piédestal en forme de disque (piédestal vertical)
Les socles en forme de disque conviennent aux systèmes d'épitaxie en phase vapeur verticale, où le substrat est placé verticalement. Cette conception permet de réduire la surface de contact entre le substrat et le suscepteur, limitant ainsi les pertes de chaleur et les risques de contamination.
Suscepteur horizontal
Les suscepteurs horizontaux sont moins courants dans l'épitaxie en phase vapeur, mais peuvent être utilisés dans certains systèmes de croissance spécifiques pour permettre la croissance épitaxiale dans une direction horizontale.
Suscepteur de réaction épitaxiale monolithique
Le suscepteur de réaction épitaxiale monolithique est conçu pour un seul substrat, qui peut fournir un contrôle de température plus précis et une meilleure isolation thermique, adapté à la croissance de couches épitaxiales de haute qualité.
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Date de publication : 30 juillet 2024