Bei der Dampfphasenepitaxie (VPE) dient der Sockel dazu, das Substrat zu stützen und eine gleichmäßige Erwärmung während des Wachstums zu gewährleisten. Verschiedene Sockeltypen eignen sich für unterschiedliche Wachstumsbedingungen und Materialsysteme. Im Folgenden sind einige der gängigsten Sockeltypen in der Dampfphasenepitaxie aufgeführt.Epitaxie:
Trommelsockel werden häufig in horizontalen oder geneigten Dampfphasenepitaxiesystemen verwendet. Sie können das Substrat halten und ermöglichen den Gasfluss über das Substrat, was zu einem gleichmäßigen epitaktischen Wachstum beiträgt.
Scheibenförmiger Sockel (vertikaler Sockel)
Scheibenförmige Sockel eignen sich für vertikale Dampfphasenepitaxiesysteme, bei denen das Substrat vertikal platziert wird. Diese Konstruktion trägt dazu bei, die Kontaktfläche zwischen Substrat und Suszeptor zu reduzieren und so Wärmeverluste und mögliche Verunreinigungen zu verringern.
Horizontaler Suszeptor
Horizontale Suszeptoren sind in der Gasphasenepitaxie weniger verbreitet, können jedoch in einigen speziellen Wachstumssystemen verwendet werden, um ein epitaktisches Wachstum in horizontaler Richtung zu ermöglichen.
Monolithischer epitaktischer Reaktionssuszeptor
Der monolithische epitaktische Reaktionssuszeptor ist für ein einzelnes Substrat ausgelegt, das eine präzisere Temperaturkontrolle und bessere Wärmeisolierung bietet und für das Wachstum hochwertiger epitaktischer Schichten geeignet ist.
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Veröffentlichungszeit: 30. Juli 2024



