Trong quá trình epitaxy pha hơi (VPE), vai trò của đế đỡ là hỗ trợ chất nền và đảm bảo gia nhiệt đồng đều trong suốt quá trình tăng trưởng. Các loại đế đỡ khác nhau phù hợp với các điều kiện tăng trưởng và hệ vật liệu khác nhau. Sau đây là một số loại đế đỡ thường được sử dụng trong epitaxy pha hơi.dịch tễ học:
Bệ đỡ thùng
Bệ đỡ hình trụ thường được sử dụng trong các hệ thống epitaxy pha hơi nằm ngang hoặc nghiêng. Chúng có thể giữ chất nền và cho phép khí lưu thông trên chất nền, giúp đạt được sự phát triển epitaxy đồng đều.
Bệ đỡ hình đĩa (bệ đỡ thẳng đứng)
Các đế hình đĩa thích hợp cho các hệ thống epitaxy pha hơi thẳng đứng, trong đó chất nền được đặt theo chiều dọc. Thiết kế này giúp giảm diện tích tiếp xúc giữa chất nền và giá đỡ, do đó giảm tổn thất nhiệt và nguy cơ nhiễm bẩn.
Bộ cảm ứng ngang
Các giá đỡ nằm ngang ít phổ biến hơn trong phương pháp epitaxy pha hơi, nhưng có thể được sử dụng trong một số hệ thống tăng trưởng đặc biệt để cho phép tăng trưởng epitaxy theo hướng nằm ngang.
Giá đỡ phản ứng epitaxy nguyên khối
Bộ phận đỡ phản ứng epitaxy nguyên khối được thiết kế cho một chất nền duy nhất, có thể cung cấp khả năng kiểm soát nhiệt độ chính xác hơn và cách nhiệt tốt hơn, phù hợp cho việc nuôi cấy các lớp epitaxy chất lượng cao.
Chào mừng bạn đến với trang web của chúng tôi để tìm hiểu thông tin sản phẩm và được tư vấn.
Trang web của chúng tôi: https://www.vet-china.com/
Thời gian đăng bài: 30/7/2024