वाष्प चरण एपिटैक्सी (VPE) प्रक्रिया के दौरान, पेडेस्टल की भूमिका सब्सट्रेट को सहारा देना और विकास प्रक्रिया के दौरान एक समान ताप सुनिश्चित करना है। विभिन्न प्रकार के पेडेस्टल विभिन्न विकास स्थितियों और सामग्री प्रणालियों के लिए उपयुक्त हैं। वाष्प चरण में आमतौर पर इस्तेमाल किए जाने वाले कुछ पेडेस्टल प्रकार निम्नलिखित हैंएपिटैक्सी:
बैरल पेडेस्टल
बैरल पेडेस्टल का उपयोग आमतौर पर क्षैतिज या झुके हुए वाष्प चरण एपिटेक्सी सिस्टम में किया जाता है। वे सब्सट्रेट को पकड़ सकते हैं और गैस को सब्सट्रेट पर बहने दे सकते हैं, जो समान एपिटैक्सियल विकास को प्राप्त करने में मदद करता है।
डिस्क के आकार का पेडस्टल (ऊर्ध्वाधर पेडस्टल)
डिस्क के आकार के पेडेस्टल ऊर्ध्वाधर वाष्प चरण एपिटैक्सी सिस्टम के लिए उपयुक्त हैं, जिसमें सब्सट्रेट को लंबवत रखा जाता है। यह डिज़ाइन सब्सट्रेट और ससेप्टर के बीच संपर्क क्षेत्र को कम करने में मदद करता है, जिससे गर्मी का नुकसान और संभावित संदूषण कम होता है।
क्षैतिज संवेदक
वाष्प चरण एपीटेक्सी में क्षैतिज ससेप्टर्स कम आम हैं, लेकिन क्षैतिज दिशा में एपीटेक्सियल वृद्धि की अनुमति देने के लिए कुछ विशिष्ट विकास प्रणालियों में इनका उपयोग किया जा सकता है।
मोनोलिथिक एपीटैक्सियल रिएक्शन ससेप्टर
मोनोलिथिक एपिटैक्सियल रिएक्शन ससेप्टर को एकल सब्सट्रेट के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो अधिक सटीक तापमान नियंत्रण और बेहतर थर्मल अलगाव प्रदान कर सकता है, जो उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल परतों के विकास के लिए उपयुक्त है।
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पोस्ट करने का समय: जुलाई-30-2024