Durante el proceso de epitaxia en fase de vapor (EPV), la función del pedestal es sostener el sustrato y garantizar un calentamiento uniforme durante el crecimiento. Existen diferentes tipos de pedestales adecuados para diferentes condiciones de crecimiento y sistemas de materiales. A continuación, se presentan algunos de los tipos de pedestal más utilizados en fase de vapor.epitaxia:
Pedestal de barril
Los pedestales de barril se utilizan comúnmente en sistemas de epitaxia en fase de vapor horizontales o inclinados. Permiten sujetar el sustrato y permitir que el gas fluya sobre él, lo que contribuye a un crecimiento epitaxial uniforme.
Pedestal en forma de disco (pedestal vertical)
Los pedestales en forma de disco son adecuados para sistemas de epitaxia vertical en fase de vapor, donde el sustrato se coloca verticalmente. Este diseño ayuda a reducir el área de contacto entre el sustrato y el susceptor, lo que reduce la pérdida de calor y la posible contaminación.
Susceptor horizontal
Los susceptores horizontales son menos comunes en la epitaxia en fase de vapor, pero pueden usarse en algunos sistemas de crecimiento específicos para permitir el crecimiento epitaxial en dirección horizontal.
Susceptor de reacción epitaxial monolítico
El susceptor de reacción epitaxial monolítico está diseñado para un solo sustrato, lo que puede proporcionar un control de temperatura más preciso y un mejor aislamiento térmico, adecuado para el crecimiento de capas epitaxiales de alta calidad.
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Hora de publicación: 30 de julio de 2024