Chuck Vakum Keramik Berpori Canggih

Chuck Vakum Keramik Berpori Canggih
Chuck Vakum Keramik Berporiadalah platform penahan beban yang menggunakan prinsip penyerapan vakum untuk memperbaiki benda kerja. Bagian dari chuck vakum yang menyalurkan vakum adalah pelat keramik berpori. Pelat keramik berpori dipasang di lubang tenggelam alas, dan pinggirannya diikat dan disegel dengan alas. Alas terbuat dari bahan keramik atau logam presisi. Dengan menggabungkan alas logam atau keramik dengan keramik berpori khusus, desain saluran udara presisi internal memungkinkan adhesi benda kerja yang halus dan stabil ke mangkuk penghisap vakum saat mengalami tekanan negatif.

Karena pori-pori yang sangat halus pada keramik berpori, permukaan benda kerja dapat melekat pada mangkuk penghisap vakum tanpa faktor yang merugikan seperti goresan atau penyok yang disebabkan oleh tekanan negatif.

Karakteristik Chuck Vakum Keramik Berpori:
① Struktur padat & seragam: Tahan terhadap penyerapan bubuk silikon/serpihan penggilingan, mudah dibersihkan.
② Kekuatan tinggi & tahan aus: Tidak ada deformasi selama penggilingan, meminimalkan terkelupas/terfragmentasinya tepi.
③ Umur pakai yang panjang: Retensi bentuk permukaan yang sangat baik, siklus perawatan yang panjang dengan pembuangan yang minimal.
④ Isolasi tinggi: Menghilangkan listrik statis.
⑤ Dapat dipakai ulang dan mudah ditata: Tidak retak/terkelupas saat pelapisan ulang, dapat dipakai ulang berkali-kali.
⑥ Bebas debu & stabil: Disinter sepenuhnya, tidak ada emisi partikel.
⑦ Ringan: Struktur berpori mengurangi berat secara signifikan.
⑧ Tahan terhadap bahan kimia: Dapat disesuaikan untuk lingkungan korosif melalui kontrol material/proses.

Chuck Vakum Keramik VS Cangkir Hisap Logam Tradisional:

Chuck vakum keramik di bidang semikonduktor
Chuck vakum keramik berfungsi sebagai alat penjepit dan pembawa dalam produksi wafer semikonduktor. Chuck ini memiliki kerataan dan paralelisme yang tinggi, struktur yang padat dan seragam, kekuatan tinggi, permeabilitas udara yang baik, gaya adsorpsi yang seragam, dan mudah dibentuk. Karakteristik ini membuatnya cocok untuk proses dalam pembuatan wafer semikonduktor seperti penipisan, pengirisan, penggilingan, pembersihan, dan penanganan. Chuck ini secara efektif mengatasi tantangan seperti pencetakan wafer, kerusakan elektrostatik pada chip, dan kontaminasi partikel, sehingga mencapai kualitas pemrosesan yang sangat tinggi untuk wafer semikonduktor dalam aplikasi praktis.