એડવાન્સ્ડ પોરસ સિરામિક વેક્યુમ ચક

એડવાન્સ્ડ પોરસ સિરામિક વેક્યુમ ચક
છિદ્રાળુ સિરામિક વેક્યુમ ચકએક લોડ-બેરિંગ પ્લેટફોર્મ છે જે વર્કપીસને ઠીક કરવા માટે વેક્યુમ શોષણના સિદ્ધાંતનો ઉપયોગ કરે છે. વેક્યુમ ચકનો જે ભાગ વેક્યુમ ટ્રાન્સમિટ કરે છે તે છિદ્રાળુ સિરામિક પ્લેટ છે. છિદ્રાળુ સિરામિક પ્લેટ બેઝના સિંકિંગ હોલમાં એસેમ્બલ કરવામાં આવે છે, અને તેનો પરિઘ બેઝ સાથે બંધાયેલ અને સીલ કરવામાં આવે છે. બેઝ ચોકસાઇ સિરામિક અથવા ધાતુની સામગ્રીથી બનેલો છે. ધાતુ અથવા સિરામિક બેઝને ખાસ છિદ્રાળુ સિરામિક સાથે જોડીને, આંતરિક ચોકસાઇ વાયુમાર્ગની ડિઝાઇન નકારાત્મક દબાણને આધિન હોય ત્યારે વેક્યુમ સક્શન કપ સાથે વર્કપીસના સરળ અને સ્થિર સંલગ્નતા માટે પરવાનગી આપે છે.

છિદ્રાળુ સિરામિક્સમાં અત્યંત બારીક છિદ્રોને કારણે, વર્કપીસની સપાટીને નકારાત્મક દબાણને કારણે થતા સ્ક્રેચ અથવા ડેન્ટ્સ જેવા કોઈપણ પ્રતિકૂળ પરિબળો વિના વેક્યુમ સક્શન કપ સાથે જોડી શકાય છે.

છિદ્રાળુ સિરામિક વેક્યુમ ચકની લાક્ષણિકતાઓ:
① ગાઢ અને એકસમાન રચના: સિલિકોન પાવડર/ગ્રાઇન્ડીંગ કાટમાળના શોષણનો પ્રતિકાર કરે છે, સાફ કરવામાં સરળ છે.
② ઉચ્ચ શક્તિ અને ઘસારો પ્રતિકાર: ગ્રાઇન્ડીંગ દરમિયાન કોઈ વિકૃતિ નહીં, ધાર ચીપિંગ/ફ્રેગ્મેન્ટેશન ઘટાડે છે.
③ લાંબુ આયુષ્ય: ઉત્તમ સપાટી આકાર જાળવણી, ઓછામાં ઓછા દૂર કરવા સાથે લાંબો ડ્રેસિંગ ચક્ર.
④ ઉચ્ચ ઇન્સ્યુલેશન: સ્થિર વીજળી દૂર કરે છે.
⑤ ફરીથી વાપરી શકાય તેવું અને પહેરવામાં સરળ: રિસરફેસિંગ દરમિયાન કોઈ ક્રેકીંગ/ચીપિંગ નહીં, બહુવિધ પુનઃઉપયોગ શક્ય છે.
⑥ ધૂળ વગરનું અને સ્થિર: સંપૂર્ણપણે સિન્ટર્ડ, કોઈ કણ ઉત્સર્જન નહીં.
⑦ હલકો: છિદ્રાળુ માળખું વજનમાં નોંધપાત્ર ઘટાડો કરે છે.
⑧ રાસાયણિક પ્રતિકાર: સામગ્રી/પ્રક્રિયા નિયંત્રણ દ્વારા કાટ લાગતા વાતાવરણ માટે કસ્ટમાઇઝ કરી શકાય તેવું.

સિરામિક વેક્યુમ ચક વિરુદ્ધ પરંપરાગત મેટલ સક્શન કપ:

સેમિકન્ડક્ટર ક્ષેત્રમાં સિરામિક વેક્યુમ ચક
સિરામિક વેક્યુમ ચક સેમિકન્ડક્ટર વેફર ઉત્પાદનમાં ક્લેમ્પિંગ અને કેરીંગ ટૂલ્સ તરીકે કામ કરે છે. તેમાં ઉચ્ચ સપાટતા અને સમાંતરતા, ગાઢ અને એકસમાન માળખું, ઉચ્ચ શક્તિ, સારી હવા અભેદ્યતા, એકસમાન શોષણ બળ અને સરળ ડ્રેસિંગનો સમાવેશ થાય છે. આ લાક્ષણિકતાઓ તેમને સેમિકન્ડક્ટર વેફર ઉત્પાદનમાં પાતળા થવા, કાપવા, ગ્રાઇન્ડીંગ, સફાઈ અને હેન્ડલિંગ જેવી પ્રક્રિયાઓ માટે યોગ્ય બનાવે છે. તેઓ વેફર ઇમ્પ્રિન્ટિંગ, ચિપ્સનું ઇલેક્ટ્રોસ્ટેટિક બ્રેકડાઉન અને કણ દૂષણ જેવા પડકારોને અસરકારક રીતે સંબોધિત કરે છે, વ્યવહારિક એપ્લિકેશનોમાં સેમિકન્ડક્ટર વેફર્સ માટે અત્યંત ઉચ્ચ પ્રોસેસિંગ ગુણવત્તા પ્રાપ્ત કરે છે.