प्रगत सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅक्यूम चक

प्रगत सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅक्यूम चक
सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅक्यूम चकहे एक लोड-बेअरिंग प्लॅटफॉर्म आहे जे वर्कपीस निश्चित करण्यासाठी व्हॅक्यूम अ‍ॅडसोर्प्शनच्या तत्त्वाचा वापर करते. व्हॅक्यूम चकचा जो भाग व्हॅक्यूम प्रसारित करतो तो एक सच्छिद्र सिरेमिक प्लेट आहे. सच्छिद्र सिरेमिक प्लेट बेसच्या सिंकिंग होलमध्ये एकत्र केली जाते आणि त्याचा परिघ बेसशी जोडलेला आणि सीलबंद केला जातो. बेस अचूक सिरेमिक किंवा धातूच्या साहित्यापासून बनलेला असतो. धातू किंवा सिरेमिक बेसला विशेष सच्छिद्र सिरेमिकसह एकत्रित करून, अंतर्गत अचूक वायुमार्गाची रचना नकारात्मक दाबाच्या अधीन असताना व्हॅक्यूम सक्शन कपला वर्कपीसचे गुळगुळीत आणि स्थिर आसंजन करण्यास अनुमती देते.

सच्छिद्र सिरेमिकमध्ये अत्यंत बारीक छिद्रे असल्याने, वर्कपीसची पृष्ठभाग व्हॅक्यूम सक्शन कपला चिकटवता येते, नकारात्मक दाबामुळे ओरखडे किंवा डेंट्ससारख्या कोणत्याही प्रतिकूल घटकांशिवाय.

सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅक्यूम चकची वैशिष्ट्ये:
① दाट आणि एकसमान रचना: सिलिकॉन पावडर/ग्राइंडिंग डेब्रिज शोषणाला प्रतिकार करते, स्वच्छ करणे सोपे आहे.
② उच्च ताकद आणि पोशाख प्रतिरोधकता: ग्राइंडिंग दरम्यान कोणतेही विकृतीकरण होत नाही, कडा चिपिंग/विखंडन कमी करते.
③ दीर्घ आयुष्य: उत्कृष्ट पृष्ठभागाचा आकार टिकवून ठेवणे, कमीत कमी काढणेसह लांब ड्रेसिंग सायकल.
④ उच्च इन्सुलेशन: स्थिर वीज काढून टाकते.
⑤ पुन्हा वापरता येण्याजोगे आणि घालण्यास सोपे: रीसरफेसिंग करताना क्रॅकिंग/चिपिंग होणार नाही, अनेक वेळा पुन्हा वापरता येईल.
⑥ धूळ न काढता येणारे आणि स्थिर: पूर्णपणे सिंटर केलेले, कण उत्सर्जन नाही.
⑦ हलके: सच्छिद्र रचना वजन लक्षणीयरीत्या कमी करते.
⑧ रासायनिक प्रतिकार: सामग्री/प्रक्रिया नियंत्रणाद्वारे संक्षारक वातावरणासाठी सानुकूल करण्यायोग्य.

सिरेमिक व्हॅक्यूम चक विरुद्ध पारंपारिक मेटल सक्शन कप:

सेमीकंडक्टर क्षेत्रात सिरेमिक व्हॅक्यूम चक
सेमीकंडक्टर वेफर उत्पादनात सिरेमिक व्हॅक्यूम चक क्लॅम्पिंग आणि कॅरींग टूल्स म्हणून काम करतात. त्यांच्यात उच्च सपाटपणा आणि समांतरता, दाट आणि एकसमान रचना, उच्च शक्ती, चांगली हवा पारगम्यता, एकसमान शोषण शक्ती आणि सोपे ड्रेसिंग आहे. ही वैशिष्ट्ये त्यांना पातळ करणे, कापणे, ग्राइंडिंग, साफ करणे आणि हाताळणी यासारख्या सेमीकंडक्टर वेफर उत्पादनातील प्रक्रियांसाठी योग्य बनवतात. ते वेफर इम्प्रिंटिंग, चिप्सचे इलेक्ट्रोस्टॅटिक ब्रेकडाउन आणि कण दूषित होणे यासारख्या आव्हानांना प्रभावीपणे तोंड देतात, व्यावहारिक अनुप्रयोगांमध्ये सेमीकंडक्टर वेफर्ससाठी अत्यंत उच्च प्रक्रिया गुणवत्ता प्राप्त करतात.