Mandrinum Vacuum Ceramicum Porosum Provectum

Mandrinum Vacuum Ceramicum Porosum Provectum
Mandrinum Vacuum Ceramicum PorosumEst suggestus portans quod principio adsorptionis vacui ad figendas res machinales utitur. Pars mandrini vacui quae vacuum transmittit est lamina ceramica porosa. Lamina ceramica porosa in foramine demerso basis componitur, cuius peripheria cum basi coniungitur et obsignatur. Basis ex materiis ceramicis vel metallicis accurate fabricatur. Combinando basin metallicam vel ceramicam cum ceramica porosa speciali, designatio canalis interni accurati adhaesionem lenem et stabilem rei machinalis ad ventosam vacui cum pressioni negativae subiecta est permittit.

Propter porositates subtilissimas in ceramicis porosis, superficies operis ad ventosam vacuum adhaerere potest sine ullis factoribus adversis, ut scalpturis vel foveis a pressione negativa effectis.

Proprietates Mandrini Vacui Ceramici Porosi:
① Structura densa et uniformis: Adsorptionem pulveris siliconis/detritiorum triturae resistit, facile purgatur.
② Alta robur et resistentia attritionis: Nulla deformatio per trituram, fragminationem/scalpturam marginis ad minimum admittit.
③ Longa vita: Excellens formae superficiei retentio, longus cyclus curationis cum minima ablatione.
④ Alta insulatio: Electricitatem staticam eliminat.
⑤ Reusabilis et facile curanda: Nullae fissurae/fragmentationes durante refectione, iterum adhiberi potest.
⑥ Non-pulverulentum et stabile: Plane sinterizatum, nulla emissio particularum.
⑦ Levis: Structura porosa pondus insigniter minuit.
⑧ Resistentia chemica: Ad ambitus corrosivos per moderationem materiae/processus adaptabilis.

Mandrinum Vacuum Ceramicum CONTRA Calicem Ventuum Metallicum Traditionalem:

Mandrinum vacuum ceramicum in agro semiconductorum
Mandrini vacui ceramici ut instrumenta prehensionis et portationis in productione laminarum semiconductorum funguntur. Planitiem magnam et parallelismum, structuram densam et uniformem, firmitatem magnam, permeabilitatem aeris bonam, vim adsorptionis uniformem, et facilem curationem habent. Hae proprietates eos aptos reddunt ad processus in fabricatione laminarum semiconductorum, ut tenuationem, sectionem, trituram, purgationem, et tractationem. Efficaciter difficultates ut impressionem laminarum, dissolutionem electrostaticam fragmentorum, et contaminationem particularum tractant, qualitatem processus altissimam pro laminis semiconductorum in applicationibus practicis assequentes.