ベットチャイナ炭化ケイ素セラミックコーティングは、非常に硬く耐摩耗性に優れた高性能保護コーティングです。炭化ケイ素(SiC)優れた耐薬品性と高温安定性を備えた材料。これらの特性は半導体製造において非常に重要であるため、炭化ケイ素セラミックコーティング半導体製造装置の主要部品に広く使用されている。
Vet-Chinaの具体的な役割炭化ケイ素セラミック半導体製造におけるコーティング工程は以下のとおりです。
機器の耐久性を向上させる:炭化ケイ素セラミックコーティングは、極めて高い硬度と耐摩耗性により、半導体製造装置の表面を優れた保護性能で守ります。特に、化学気相成長法(CVD)やプラズマエッチングなどの高温かつ腐食性の高いプロセス環境において、化学腐食や物理的摩耗による装置表面の損傷を効果的に防止し、装置の耐用年数を大幅に延長するとともに、頻繁な交換や修理によるダウンタイムを削減します。
プロセスの純度を向上させる:半導体製造工程において、微細な汚染物質が製品の欠陥を引き起こす可能性があります。炭化ケイ素セラミックコーティングは化学的に不活性であるため、過酷な条件下でも安定性を維持し、材料からの粒子や不純物の放出を防ぎ、工程の環境清浄度を確保します。これは、PECVDやイオン注入など、高い精度と高い清浄度が求められる製造工程において特に重要です。
熱管理を最適化する:急速熱処理(RTP)や酸化プロセスなどの高温半導体プロセスにおいて、炭化ケイ素セラミックコーティングの高い熱伝導率は、装置内部の温度分布を均一化します。これにより、温度変動による熱応力や材料変形が軽減され、製品製造の精度と一貫性が向上します。
複雑なプロセス環境をサポートする:ICPエッチングやPSSエッチングなどの複雑な雰囲気制御を必要とするプロセスにおいて、炭化ケイ素セラミックコーティングの安定性と耐酸化性により、装置は長期運転においても安定した性能を維持し、環境変化による材料劣化や装置の損傷のリスクを低減します。
| CVD SiC膜の基本物理性能 CVD SiCの基本的な物理的特性コーティング | |
| 性质 / 財産 | 典型的な数値 標準値 |
| 結晶構造 結晶構造 | FCC β相多結晶、主である(111)取向 |
| 密度 / 密度 | 3.21 g/cm³ |
| 硬度 硬度 | 2500维度硬度(500g荷重) |
| 結晶粒大小 / 粒の大きさ | 2~10μm |
| 度 化学的純度 | 99.99995% |
| 熱容 熱容量 | 640 J・kg-1・K-1 |
| 昇华温度 昇華温度 | 2700℃ |
| 抗强度 曲げ強度 | 415 MPa RT 4点 |
| 杨氏模量 ヤング率 | 430 GPa 4点曲げ、1300℃ |
| 导熱系数 / テルマl導電率 | 300W・m-1・K-1 |
| 熱膨張胀系数 熱膨張係数(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
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