Ang CVD Coating Focus Ring para sa Plasma Etching ay isang kritikal na consumable component na ginagamit sa mga advanced semiconductor etching system. Ginawa gamit ang composite structure ng substrate + CVD coating, ang produktong ito ay dinisenyo upang i-optimize ang plasma distribution, mapabuti ang etching uniformity, at pahabain ang chamber component lifetime.
Sa Vet Energy, ginagamit namin ang malalim na kadalubhasaan sa teknolohiya ng chemical vapor deposition (CVD) at mga advanced na ceramic material upang makapaghatid ng mga focus ring na nakakatugon sa mahigpit na mga kinakailangan ng mga modernong semiconductor node, kabilang ang mga proseso ng FinFET at 3D NAND.
Papel ng Focus Ring sa Plasma Etching
Sa mga sistema ng plasma etching (tulad ng mga reactor ng ICP at CCP), ang focus ring ay nakaposisyon sa paligid ng gilid ng wafer at gumaganap ng mahalagang papel sa katatagan ng proseso at pagganap ng ani.
1. Pagkontrol sa Pagkakapareho ng Plasma
Ang focus ring ay gumaganap bilang isang elektrikal at pisikal na hangganan na tumutulong sa pag-regulate ng distribusyon ng densidad ng plasma sa buong ibabaw ng wafer.
Mga pangunahing benepisyo:
● Pinahusay na pagkakapareho ng bilis ng pag-ukit
● Nabawasang pagkakaiba-iba mula gitna hanggang gilid
● Pinahusay na kakayahang maulit ang proseso
2. Kompensasyon sa Epekto ng Gilid
Kung walang focus ring, ang pagbaluktot ng plasma sheath sa gilid ng wafer ay maaaring humantong sa hindi pantay na pag-ukit.
Ang focus ring ay epektibong gumagana bilang isang "virtual wafer extension", na nagpapaliit sa mga anomalya na may kaugnayan sa gilid tulad ng:
● Sobrang pag-ukit sa mga gilid ng wafer
● Paglihis ng kritikal na dimensyon (CD)
● Pagbaluktot ng profile
3. Ion Trajectory at Kontrol ng Enerhiya
Sa pamamagitan ng pag-impluwensya sa lokal na electric field, ang focus ring ay nakakatulong na patatagin ang mga anggulo ng ion incident at distribusyon ng enerhiya, na mahalaga para sa:
● Mataas na aspect ratio (HAR) na pag-ukit
● Kontrol ng profile na anisotropiko
● Nabawasang pinsala sa gilid
4. Proteksyon ng Silid at Pagbawas ng Kontaminasyon
Bilang isang sangkap na sakripisyo, ang focus ring ay sumisipsip ng direktang pagkakalantad sa plasma at mga byproduct ng deposition.
Mga bentahe na nagreresulta:
● Nabawasang erosyon sa dingding ng silid
● Mas mababang kontaminasyon ng partikulo
● Pinahabang mga siklo ng pagpapanatili (mga pagitan ng PM)
