প্লাজমা এচিং-এর জন্য ব্যবহৃত সিভিডি কোটিং ফোকাস রিং হলো একটি অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ ব্যবহারযোগ্য উপাদান, যা উন্নত সেমিকন্ডাক্টর এচিং সিস্টেমে ব্যবহৃত হয়। সাবস্ট্রেট ও সিভিডি কোটিং-এর একটি যৌগিক কাঠামো দিয়ে তৈরি এই পণ্যটি প্লাজমার বণ্টনকে সর্বোত্তম করতে, এচিং-এর সমরূপতা বাড়াতে এবং চেম্বার উপাদানের আয়ুষ্কাল দীর্ঘায়িত করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে।
ভেট এনার্জিতে, আমরা কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন (CVD) প্রযুক্তি এবং উন্নত সিরামিক উপকরণে আমাদের গভীর দক্ষতাকে কাজে লাগিয়ে এমন ফোকাস রিং তৈরি করি যা FinFET এবং 3D NAND প্রসেস সহ আধুনিক সেমিকন্ডাক্টর নোডের কঠোর প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।
প্লাজমা এচিং-এ ফোকাস রিং-এর ভূমিকা
প্লাজমা এচিং সিস্টেমে (যেমন ICP এবং CCP রিঅ্যাক্টর), ফোকাস রিংটি ওয়েফারের প্রান্তের চারপাশে অবস্থিত থাকে এবং এটি প্রসেসের স্থিতিশীলতা ও উৎপাদন কার্যকারিতায় একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে।
১. প্লাজমার সমরূপতা নিয়ন্ত্রণ
ফোকাস রিংটি একটি বৈদ্যুতিক ও ভৌত সীমানা হিসেবে কাজ করে যা ওয়েফার পৃষ্ঠ জুড়ে প্লাজমা ঘনত্বের বন্টন নিয়ন্ত্রণ করতে সাহায্য করে।
প্রধান সুবিধাসমূহ:
● উন্নত এচ রেট সমরূপতা
● কেন্দ্র থেকে প্রান্ত পর্যন্ত তারতম্য হ্রাস
● উন্নত প্রক্রিয়া পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা
২. প্রান্তিক প্রভাব ক্ষতিপূরণ
ফোকাস রিং ছাড়া, ওয়েফারের প্রান্তে প্লাজমা শিথের বিকৃতির কারণে এচিং অসম হতে পারে।
ফোকাস রিংটি কার্যকরভাবে একটি “ভার্চুয়াল ওয়েফার এক্সটেনশন” হিসেবে কাজ করে, যা প্রান্ত-সম্পর্কিত অসঙ্গতিগুলো হ্রাস করে, যেমন:
● ওয়েফারের প্রান্তে অতিরিক্ত এচিং
● সংকটপূর্ণ মাত্রা (CD) বিচ্যুতি
● প্রোফাইল বিকৃতি
৩. আয়নের গতিপথ এবং শক্তি নিয়ন্ত্রণ
স্থানীয় বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রকে প্রভাবিত করার মাধ্যমে, ফোকাস রিং আয়ন আপতন কোণ এবং শক্তি বন্টনকে স্থিতিশীল করতে সাহায্য করে, যা নিম্নলিখিত বিষয়গুলির জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ:
● উচ্চ অ্যাসপেক্ট রেশিও (HAR) এচিং
● অ্যানাইসোট্রপিক প্রোফাইল নিয়ন্ত্রণ
● পার্শ্ব দেয়ালের ক্ষতি হ্রাস
৪. চেম্বার সুরক্ষা এবং দূষণ হ্রাস
একটি উৎসর্গীকৃত উপাদান হিসেবে, ফোকাস রিংটি সরাসরি প্লাজমার সংস্পর্শ এবং অধঃক্ষেপণের উপজাত শোষণ করে।
এর ফলে প্রাপ্ত সুবিধাগুলো:
● চেম্বারের দেয়ালের ক্ষয় হ্রাস
● কম কণা দূষণ
● বর্ধিত রক্ষণাবেক্ষণ চক্র (পিএম ব্যবধান)
