CVD örtük fokus halkasy

Gysgaça düşündiriş:

Plazma aşyndyryş üçin CVD örtükli fokus halkasy ösen aşyndyryş ulgamlarynda plazma paýlanyşyny optimizirlemek we aşyndyryşyň deňligini gowulandyrmak üçin niýetlenendir. Berk Si ýa-da SiC substratyny ýokary arassa CVD SiC örtügi bilen utgaşdyryp, ol ajaýyp plazma garşylygyny, örän pes bölejikleriň döremegini we hyzmat ömrüniň uzaldylmagyny üpjün edýär. ICP we CCP plazma aşyndyryş proseslerinde giňden ulanylýan bu fokus halkasy gyra täsirlerini netijeli azaldýar, ionlaryň häsiýetini durnuklaşdyrýar we kamera böleklerini eroziýadan we hapalanmadan goraýar. Ol ösen ýarymgeçiriji önümçilikde ýokary hasyl we proses yzygiderliligine ýetmek üçin möhüm sarp ediji serişdedir.

Bize e-poçta iberiň PDF görnüşinde göçürip alyň

Önümiň jikme-jiklikleri

Önümiň tegleri

Plazma aşyndyryş üçin CVD örtük fokus halkasy ösen ýarymgeçiriji aşyndyryş ulgamlarynda ulanylýan möhüm sarp edilýän bölekdir. Substrat + CVD örtüginiň kompozit gurluşy bilen işlenen bu önüm plazma paýlanyşyny optimizirlemek, aşyndyryşyň deňligini gowulandyrmak we kameranyň bölekleriniň ömrüni uzaltmak üçin niýetlenendir.

“Vet Energy” kompaniýasynda biz “FinFET” we 3D NAND prosesleri ýaly häzirki zaman ýarymgeçiriji düwünleriniň berk talaplaryna laýyk gelýän fokus halkalaryny üpjün etmek üçin himiki bug çökündileri (CVD) tehnologiýasynda we ösen keramiki materiallarda çuňňur tejribämize eýe bolýarys.

Plazma aşındyrmasynda fokus halkasynyň roly

Plazma aşındyryş ulgamlarynda (ICP we CCP reaktorlary ýaly) fokus halkasy plastinkanyň gyrasynyň töwereginde ýerleşýär we prosesiň durnuklylygynda we netijede möhüm rol oýnaýar.

1. Plazma deňliginiň gözegçiligi

Fokus halkasy plazma dykyzlygynyň plazmanyň ýüzünde paýlanyşyny kadalaşdyrmaga kömek edýän elektrik we fiziki serhet hökmünde hereket edýär.

Esasy peýdalar:

● Aşkarlama tizliginiň deňligi gowulandyryldy
● Merkeziň gyrasyna üýtgeşiklikleriň azaldylmagy
● Prosesiň gaýtalanmagy gowulandyryldy

2. Gyra täsiriniň kompensasiýa

Fokus halkasy bolmasa, plastma örtüginiň gyrasyndaky deformasiýa deň däl aşınmalara sebäp bolup biler.

Fokus halkasy netijeli ýagdaýda "wirtual wafer giňeltmesi" hökmünde işleýär we gyra bilen baglanyşykly anomaliýalary, mysal üçin:

● Wafer gyralarynda artykmaç aşynma
● Kritiki ölçeg (KÖ) boýunça çetleşme
● Profiliň bozulmagy

3. Ion traýektoriýasy we energiýa gözegçiligi

Ýerli elektrik meýdanyna täsir etmek bilen, fokus halkasy ion düşýän burçlary we energiýa paýlanyşyny durnuklaşdyrmaga kömek edýär, bu bolsa aşakdakylar üçin möhümdir:

● Ýokary taraplaýyn gatnaşyk (HAR) bilen oýmak
● Anizotrop profil gözegçiligi
● Gapdal diwaryň zeperlenmeginiň azaldylmagy