सीवीडी कोटिंग फोकस रिंग

संक्षिप्त वर्णन:

प्लाज्मा एचिंग के लिए सीवीडी कोटिंग फोकस रिंग को उन्नत एचिंग सिस्टम में प्लाज्मा वितरण को अनुकूलित करने और एचिंग की एकरूपता को बेहतर बनाने के लिए डिज़ाइन किया गया है। मजबूत Si या SiC सबस्ट्रेट और उच्च शुद्धता वाली सीवीडी SiC कोटिंग के संयोजन से निर्मित यह रिंग बेहतर प्लाज्मा प्रतिरोध, अत्यंत कम कण उत्पादन और लंबी सेवा अवधि प्रदान करती है। आईसीपी और सीसीपी प्लाज्मा एचिंग प्रक्रियाओं में व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली यह फोकस रिंग किनारों के प्रभावों को प्रभावी ढंग से कम करती है, आयन व्यवहार को स्थिर करती है और चैम्बर घटकों को क्षरण और संदूषण से बचाती है। उन्नत सेमीकंडक्टर निर्माण में उच्च उत्पादन और प्रक्रिया स्थिरता प्राप्त करने के लिए यह एक आवश्यक उपभोज्य वस्तु है।


उत्पाद विवरण

उत्पाद टैग

प्लाज्मा एचिंग के लिए सीवीडी कोटिंग फोकस रिंग उन्नत सेमीकंडक्टर एचिंग सिस्टम में उपयोग होने वाला एक महत्वपूर्ण उपभोज्य घटक है। सब्सट्रेट + सीवीडी कोटिंग की मिश्रित संरचना से निर्मित यह उत्पाद प्लाज्मा वितरण को अनुकूलित करने, एचिंग की एकरूपता में सुधार करने और चैम्बर घटक के जीवनकाल को बढ़ाने के लिए डिज़ाइन किया गया है।

वेट एनर्जी में, हम केमिकल वेपर डिपोजिशन (सीवीडी) तकनीक और उन्नत सिरेमिक सामग्रियों में अपनी गहरी विशेषज्ञता का लाभ उठाते हुए ऐसे फोकस रिंग्स प्रदान करते हैं जो फिनफेट और 3डी नैंड प्रक्रियाओं सहित आधुनिक सेमीकंडक्टर नोड्स की कठोर आवश्यकताओं को पूरा करते हैं।

प्लाज्मा एचिंग में फोकस रिंग की भूमिका

प्लाज्मा एचिंग सिस्टम (जैसे कि आईसीपी और सीसीपी रिएक्टर) में, फोकस रिंग वेफर के किनारे के आसपास स्थित होती है और प्रक्रिया स्थिरता और उपज प्रदर्शन में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है।

1. प्लाज्मा एकरूपता नियंत्रण

फोकस रिंग एक विद्युत और भौतिक सीमा के रूप में कार्य करती है जो वेफर सतह पर प्लाज्मा घनत्व वितरण को नियंत्रित करने में मदद करती है।

मुख्य लाभ:

● एचिंग दर की एकरूपता में सुधार
● केंद्र से किनारे तक की भिन्नता में कमी
● प्रक्रिया की पुनरावृत्ति क्षमता में वृद्धि

2. एज इफेक्ट कम्पेनसेशन

फोकस रिंग के बिना, वेफर के किनारे पर प्लाज्मा शीथ विरूपण के कारण असमान नक्काशी हो सकती है।

फोकस रिंग प्रभावी रूप से एक "आभासी वेफर विस्तार" के रूप में कार्य करती है, जिससे किनारे से संबंधित विसंगतियों को कम किया जा सकता है, जैसे कि:

● वेफर के किनारों पर अत्यधिक नक्काशी
● महत्वपूर्ण आयाम (सीडी) विचलन
● प्रोफ़ाइल विरूपण

3. आयन प्रक्षेप पथ और ऊर्जा नियंत्रण

स्थानीय विद्युत क्षेत्र को प्रभावित करके, फोकस रिंग आयन आपतन कोणों और ऊर्जा वितरण को स्थिर करने में मदद करती है, जो निम्नलिखित के लिए महत्वपूर्ण है:

● उच्च पहलू अनुपात (HAR) नक़्क़ाशी
● विषमदैशिक प्रोफ़ाइल नियंत्रण
● साइडवॉल को होने वाली क्षति में कमी

4. कक्ष संरक्षण और संदूषण में कमी

एक बलिदानी घटक के रूप में, फोकस रिंग प्रत्यक्ष प्लाज्मा एक्सपोजर और निक्षेपण उप-उत्पादों को अवशोषित करती है।

परिणामस्वरूप प्राप्त होने वाले लाभ:

● कक्ष की दीवार का क्षरण कम हुआ
● कणों से होने वाला प्रदूषण कम होता है
● विस्तारित रखरखाव चक्र (पीएम अंतराल)


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