CVD bevonatú fókuszgyűrű

Rövid leírás:

A plazmamaratáshoz használt CVD bevonatú fókuszgyűrű optimalizálja a plazmaeloszlást és javítja a maratás egyenletességét a fejlett marórendszerekben. A robusztus Si vagy SiC hordozónak és a nagy tisztaságú CVD SiC bevonatnak köszönhetően kiváló plazmaállóságot, ultraalacsony részecskeképződést és hosszabb élettartamot biztosít. Az ICP és CCP plazmamaratási folyamatokban széles körben használt fókuszgyűrű hatékonyan minimalizálja az élhatásokat, stabilizálja az ionok viselkedését, és megvédi a kamra alkatrészeit az eróziótól és a szennyeződéstől. Alapvető fogyóeszköz a magas hozam és a folyamatkonzisztencia eléréséhez a fejlett félvezetőgyártásban.


Termék részletei

Termékcímkék

A plazmamaratáshoz használt CVD bevonatú fókuszgyűrű kritikus fontosságú fogyóeszköz-alkatrész, amelyet a fejlett félvezető marórendszerekben használnak. Az aljzatból és CVD bevonatból álló kompozit szerkezettel tervezett termék optimalizálja a plazma eloszlását, javítja a maratás egyenletességét és meghosszabbítja a kamra alkatrészeinek élettartamát.

A Vet Energynél mélyreható szakértelmet alkalmazunk a kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) technológiában és a fejlett kerámiaanyagokban, hogy olyan fókuszgyűrűket szállítsunk, amelyek megfelelnek a modern félvezető csomópontok, beleértve a FinFET és a 3D NAND folyamatokat is, szigorú követelményeinek.

A fókuszgyűrű szerepe a plazmamaratásban

Plazmamaratási rendszerekben (mint például az ICP és CCP reaktorokban) a fókuszgyűrű a lapka széle körül helyezkedik el, és létfontosságú szerepet játszik a folyamat stabilitásában és a hozamteljesítményben.

1. Plazma egyenletességének szabályozása

A fókuszgyűrű elektromos és fizikai határként működik, amely segít szabályozni a plazma sűrűségének eloszlását az ostya felületén.

Főbb előnyök:

● Javított marási sebesség egyenletesség
● Csökkentett középponttól szélig terjedő eltérés
● Fokozott folyamatismétlési pontosság

2. Élhatás-kompenzáció

Fókuszgyűrű nélkül a plazmahéj torzulása a lapka szélén egyenetlen maratáshoz vezethet.

A fókuszgyűrű hatékonyan „virtuális ostyahosszabbításként” működik, minimalizálva az élekkel kapcsolatos anomáliákat, mint például:

● Túlmaratás a lapka szélein
● Kritikus méret (CD) eltérés
● Profil torzítás

3. Ionpálya és energiaszabályozás

A lokális elektromos tér befolyásolásával a fókuszgyűrű segít stabilizálni az ionok beesési szögeit és energiaeloszlását, ami kulcsfontosságú a következők szempontjából:

● Nagy képarányú (HAR) maratás
● Anizotróp profilvezérlés
● Csökkentett oldalfal-károsodás

4. Kamravédelem és szennyeződéscsökkentés

Áldozati komponensként a fókuszgyűrű elnyeli a közvetlen plazma expozíciót és a lerakódás melléktermékeit.

Ebből adódó előnyök:

● Csökkent kamrafal-erózió
● Alacsonyabb részecskeszennyezés
● Kiterjesztett karbantartási ciklusok (PM intervallumok)


  • Előző:
  • Következő:

  • Online csevegés WhatsApp-on!