Pierścień ogniskujący z powłoką CVD do trawienia plazmowego to kluczowy element eksploatacyjny stosowany w zaawansowanych systemach trawienia półprzewodników. Zaprojektowany na bazie kompozytowej struktury podłoża i powłoki CVD, produkt ten optymalizuje rozkład plazmy, poprawia jednorodność trawienia i wydłuża żywotność elementów komory.
W Vet Energy wykorzystujemy naszą rozległą wiedzę specjalistyczną w zakresie technologii osadzania chemicznego z fazy gazowej (CVD) oraz zaawansowanych materiałów ceramicznych, aby dostarczać pierścienie ogniskujące spełniające rygorystyczne wymagania nowoczesnych węzłów półprzewodnikowych, w tym procesów FinFET i 3D NAND.
Rola pierścienia ogniskowego w trawieniu plazmowym
W systemach trawienia plazmowego (takich jak reaktory ICP i CCP) pierścień ogniskujący jest umieszczony wokół krawędzi płytki i odgrywa kluczową rolę w zapewnieniu stabilności procesu i wydajności.
1. Kontrola jednorodności plazmy
Pierścień regulacji ostrości pełni funkcję granicy elektrycznej i fizycznej, która pomaga regulować rozkład gęstości plazmy na powierzchni płytki.
Główne korzyści:
● Poprawiona jednorodność szybkości trawienia
● Zmniejszona zmienność od środka do krawędzi
● Zwiększona powtarzalność procesu
2. Kompensacja efektu krawędziowego
Brak pierścienia regulacji ostrości może powodować zniekształcenie osłony plazmowej na krawędzi płytki, co może prowadzić do nierównomiernego trawienia.
Pierścień ostrości działa skutecznie jako „wirtualne przedłużenie płytki”, minimalizując anomalie związane z krawędziami, takie jak:
● Nadtrawienie krawędzi płytki
● Odchylenie wymiaru krytycznego (CD)
● Zniekształcenie profilu
3. Trajektoria jonów i kontrola energii
Pierścień ogniskujący oddziałuje na lokalne pole elektryczne, pomagając ustabilizować kąty padania jonów i rozkład energii, co jest kluczowe dla:
● Trawienie o wysokim współczynniku kształtu (HAR)
● Kontrola profilu anizotropowego
● Zmniejszone uszkodzenia ścian bocznych
4. Ochrona komory i redukcja zanieczyszczeń
Pierścień regulacji ostrości, jako element ofiarny, pochłania bezpośrednie promieniowanie plazmowe i produkty uboczne osadzania.
Wynikające z tego korzyści:
● Zmniejszona erozja ścianek komory
● Mniejsze zanieczyszczenie cząsteczkami
● Wydłużone cykle konserwacji (interwały PM)
