Inel de focalizare cu acoperire CVD

Scurtă descriere:

Inelul de focalizare cu acoperire CVD pentru gravare cu plasmă este conceput pentru a optimiza distribuția plasmei și a îmbunătăți uniformitatea gravării în sistemele avansate de gravare. Având un substrat robust de Si sau SiC combinat cu un acoperire CVD SiC de înaltă puritate, oferă o rezistență superioară la plasmă, o generare ultra-scăzută de particule și o durată de viață extinsă. Utilizat pe scară largă în procesele de gravare cu plasmă ICP și CCP, acest inel de focalizare minimizează eficient efectele de margine, stabilizează comportamentul ionilor și protejează componentele camerei de eroziune și contaminare. Este un consumabil esențial pentru obținerea unui randament ridicat și a consecvenței procesului în fabricarea avansată a semiconductorilor.

Trimiteți-ne un e-mail Descărcați ca PDF

Detalii produs

Etichete de produs

Inelul de focalizare cu acoperire CVD pentru gravarea cu plasmă este o componentă consumabilă critică utilizată în sistemele avansate de gravare a semiconductorilor. Proiectat cu o structură compozită de substrat + acoperire CVD, acest produs este conceput pentru a optimiza distribuția plasmei, a îmbunătăți uniformitatea gravării și a prelungi durata de viață a componentelor camerei.

La Vet Energy, valorificăm expertiza vastă în tehnologia depunerii chimice în fază de vapori (CVD) și materialele ceramice avansate pentru a oferi inele de focalizare care îndeplinesc cerințele stricte ale nodurilor semiconductoare moderne, inclusiv procesele FinFET și 3D NAND.

Rolul inelului de focalizare în gravarea cu plasmă

În sistemele de gravare cu plasmă (cum ar fi reactoarele ICP și CCP), inelul de focalizare este poziționat în jurul marginii plachetei și joacă un rol vital în stabilitatea procesului și performanța.

1. Controlul uniformității plasmei

Inelul de focalizare acționează ca o limită electrică și fizică care ajută la reglarea distribuției densității plasmei pe suprafața plachetei.

Beneficii cheie:

● Uniformitate îmbunătățită a ratei de gravare
● Variație redusă de la centru la margine
● Repetabilitate îmbunătățită a procesului

2. Compensarea efectului de margine

Fără un inel de focalizare, distorsiunea tecii de plasmă la marginea napolitanei poate duce la o gravare neuniformă.

Inelul de focalizare funcționează efectiv ca o „extensie virtuală a plachetei”, reducând la minimum anomaliile legate de margini, cum ar fi:

● Supra-gravare la marginile napolitanelor
● Abaterea dimensiunii critice (CD)
● Distorsiune profil

3. Traiectoria ionilor și controlul energiei

Prin influențarea câmpului electric local, inelul de focalizare ajută la stabilizarea unghiurilor de incidență ale ionilor și a distribuției energiei, ceea ce este crucial pentru:

● Gravare cu raport de aspect ridicat (HAR)
● Controlul profilului anizotrop
● Reducerea deteriorării flancurilor