CVD-beleggets fokusring for plasmaetsing er en kritisk forbrukskomponent som brukes i avanserte halvlederetsingssystemer. Dette produktet er konstruert med en komposittstruktur av substrat + CVD-belegg, og er designet for å optimalisere plasmafordeling, forbedre etsningsjevnheten og forlenge kammerkomponentenes levetid.
Hos Vet Energy utnytter vi dyp ekspertise innen kjemisk dampavsetningsteknologi (CVD) og avanserte keramiske materialer for å levere fokusringer som oppfyller de strenge kravene til moderne halvledernoder, inkludert FinFET og 3D NAND-prosesser.
Fokusringens rolle i plasmaetsing
I plasmaetsningssystemer (som ICP- og CCP-reaktorer) er fokusringen plassert rundt waferkanten og spiller en viktig rolle i prosessstabilitet og utbytte.
1. Kontroll av plasmauniformitet
Fokusringen fungerer som en elektrisk og fysisk grense som bidrar til å regulere plasmatetthetsfordelingen over waferoverflaten.
Viktige fordeler:
● Forbedret etsehastighetens ensartethet
● Redusert variasjon fra sentrum til kant
● Forbedret prosessrepeterbarhet
2. Kanteffektkompensasjon
Uten fokusring kan plasmakappeforvrengning ved waferkanten føre til ujevn etsning.
Fokusringen fungerer effektivt som en «virtuell waferforlengelse», som minimerer kantrelaterte avvik som:
● Overetsing på waferkantene
● Avvik fra kritisk dimensjon (CD)
● Profilforvrengning
3. Ionebane og energikontroll
Ved å påvirke det lokale elektriske feltet, bidrar fokusringen til å stabilisere ionenes innfallsvinkler og energifordeling, noe som er avgjørende for:
● Etsing med høyt sideforhold (HAR)
● Anisotropisk profilkontroll
● Redusert sideveggskade
4. Kammerbeskyttelse og forurensningsreduksjon
Som en offerkomponent absorberer fokusringen direkte plasmaeksponering og avsetningsbiprodukter.
Resulterende fordeler:
● Redusert erosjon av kammerveggen
● Lavere partikkelforurensning
● Utvidede vedlikeholdssykluser (PM-intervaller)
