CVD-tegaĵa fokusringo

Mallonga Priskribo:

La fokusa ringo kun CVD-tegaĵo por plasma gravurado estas desegnita por optimumigi plasmodistribuon kaj plibonigi la gravuran homogenecon en progresintaj gravuraj sistemoj. El fortika Si aŭ SiC-substrato kombinita kun altpureca CVD-SiC-tegaĵo, ĝi liveras superan plasmoreziston, ultramalaltan partiklan generadon kaj plilongigitan servodaŭron. Vaste uzata en ICP kaj CCP-plasmogravuraj procezoj, ĉi tiu fokusa ringo efike minimumigas randajn efikojn, stabiligas jonan konduton kaj protektas kamerajn komponantojn de erozio kaj poluado. Ĝi estas esenca konsumaĵo por atingi altan rendimenton kaj procezan konsistencon en progresinta semikonduktaĵa fabrikado.


Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

La CVD-tegaĵa fokusringo por plasmagravurado estas kritika konsumebla komponanto uzata en progresintaj duonkonduktaĵaj gravuradsistemoj. Realigita kun kompozita strukturo de substrato + CVD-tegaĵo, ĉi tiu produkto estas desegnita por optimumigi plasmodistribuon, plibonigi la gravuran homogenecon kaj plilongigi la vivdaŭron de la kamera komponanto.

Ĉe Vet Energy, ni utiligas profundan sperton pri kemia vapora deponado (CVD) kaj progresintajn ceramikajn materialojn por liveri fokusajn ringojn, kiuj plenumas la striktajn postulojn de modernaj duonkonduktaĵaj nodoj, inkluzive de FinFET kaj 3D NAND-procezoj.

Rolo de Fokusa Ringo en Plasma Gravurado

En plasmakvogravuraj sistemoj (kiel ekzemple ICP kaj CCP reaktoroj), la fokusa ringo estas poziciigita ĉirkaŭ la rando de la oblato kaj ludas esencan rolon en proceza stabileco kaj rendimenta elfaro.

1. Kontrolo de Plasma Homogeneco

La fokusa ringo funkcias kiel elektra kaj fizika limo, kiu helpas reguligi la distribuon de plasmodenseco trans la surfaco de la oblato.

Ŝlosilaj avantaĝoj:

● Plibonigita homogeneco de la gravura rapideco
● Reduktita variado inter centro kaj rando
● Plibonigita ripeteblo de procezo

2. Kompenso de Randa Efiko

Sen fokusringo, plasmo-ingomisprezento ĉe la rando de la oblato povas konduki al neunuforma gratado.

La fokusa ringo efike funkcias kiel "virtuala oblatendaĵo", minimumigante rand-rilatajn anomaliojn kiel ekzemple:

● Tro-gratado ĉe randoj de la oblatoj
● Kritika dimensio (KD) devio
● Profila misprezento

3. Jona Trajektorio kaj Energio-Kontrolo

Influante la lokan elektran kampon, la fokusa ringo helpas stabiligi la jonajn incidajn angulojn kaj energidistribuon, kio estas decida por:

● Gravurado kun alta bildformato (HAR)
● Anizotropa profila kontrolo
● Reduktita flankmura difekto

4. Kamera Protekto kaj Poluado-Redukto

Kiel oferkomponento, la fokusringo absorbas rektan plasmomalkovron kaj deponadkromproduktojn.

Rezultantaj avantaĝoj:

● Reduktita erozio de la ĉambromuro
● Malpli alta partikla poluado
● Plilongigitaj prizorgaj cikloj (PM-intervaloj)


  • Antaŭa:
  • Sekva:

  • Reta babilejo per WhatsApp!