Cincin Fokus Pelapisan CVD untuk Etching Plasma adalah komponen habis pakai penting yang digunakan dalam sistem etching semikonduktor canggih. Direkayasa dengan struktur komposit substrat + pelapisan CVD, produk ini dirancang untuk mengoptimalkan distribusi plasma, meningkatkan keseragaman etching, dan memperpanjang umur komponen ruang etching.
Di Vet Energy, kami memanfaatkan keahlian mendalam dalam teknologi pengendapan uap kimia (CVD) dan material keramik canggih untuk menghadirkan cincin fokus yang memenuhi persyaratan ketat dari node semikonduktor modern, termasuk proses FinFET dan 3D NAND.
Peran Cincin Fokus dalam Etching Plasma
Dalam sistem etsa plasma (seperti reaktor ICP dan CCP), cincin fokus diposisikan di sekitar tepi wafer dan memainkan peran penting dalam stabilitas proses dan kinerja hasil produksi.
1. Kontrol Keseragaman Plasma
Cincin fokus bertindak sebagai batas listrik dan fisik yang membantu mengatur distribusi kepadatan plasma di seluruh permukaan wafer.
Manfaat utama:
● Peningkatan keseragaman laju etsa
● Mengurangi variasi dari tengah ke tepi
● Peningkatan pengulangan proses
2. Kompensasi Efek Tepi
Tanpa cincin fokus, distorsi selubung plasma di tepi wafer dapat menyebabkan etsa yang tidak seragam.
Cincin fokus secara efektif berfungsi sebagai "ekstensi wafer virtual", meminimalkan anomali terkait tepi seperti:
● Pengikisan berlebihan pada tepi wafer
● Penyimpangan dimensi kritis (CD)
● Distorsi profil
3. Trajektori Ion dan Pengendalian Energi
Dengan memengaruhi medan listrik lokal, cincin fokus membantu menstabilkan sudut datang ion dan distribusi energi, yang sangat penting untuk:
● Etching dengan rasio aspek tinggi (HAR)
● Kontrol profil anisotropik
● Mengurangi kerusakan dinding samping
4. Perlindungan Ruang dan Pengurangan Kontaminasi
Sebagai komponen pengorbanan, cincin fokus menyerap paparan plasma langsung dan produk sampingan pengendapan.
Keuntungan yang dihasilkan:
● Mengurangi erosi dinding ruang
● Kontaminasi partikel lebih rendah
● Siklus perawatan yang diperpanjang (interval PM)
