Fàinne fòcas còmhdach CVD

Tuairisgeul Goirid:

Tha Càball Fòcais CVD airson Greusadh Plasma air a dhealbhadh gus sgaoileadh plasma a bharrachadh agus cunbhalachd greasaidh a leasachadh ann an siostaman greasaidh adhartach. Le fo-strat làidir Si no SiC còmhla ri còmhdach CVD SiC àrd-ghlanachd, bheir e seachad strì an aghaidh plasma nas fheàrr, gineadh mìrean glè ìosal, agus beatha seirbheis nas fhaide. Air a chleachdadh gu farsaing ann am pròiseasan greasaidh plasma ICP agus CCP, bidh an fhàinne fòcais seo a’ lughdachadh bhuaidhean oir gu h-èifeachdach, a’ daingneachadh giùlan ian, agus a’ dìon phàirtean an t-seòmair bho chreimeadh agus truailleadh. Tha e na stuth caithte riatanach airson toradh àrd agus cunbhalachd pròiseas a choileanadh ann an saothrachadh leth-chonnsachaidh adhartach.

Cuir post-d thugainn Luchdaich sìos mar PDF

Mion-fhiosrachadh Toraidh

Tagaichean Bathar

’S e pàirt chudromach a ghabhas ithe a th’ anns a’ Chòmhdach CVD Coating Focus Ring airson Plasma Etching a thathas a’ cleachdadh ann an siostaman adhartach gràbhaidh leth-chonnsachaidh. Air a dhealbhadh le structar co-dhèanta de shubstrait + còmhdach CVD, tha an toradh seo air a dhealbhadh gus sgaoileadh plasma a bharrachadh, cunbhalachd gràbhaidh a leasachadh, agus fad-beatha phàirtean an t-seòmair a leudachadh.

Aig Vet Energy, bidh sinn a’ cleachdadh eòlas domhainn ann an teicneòlas tasgadh smùid ceimigeach (CVD) agus stuthan ceirmeag adhartach gus fàinneachan fòcais a lìbhrigeadh a choinnicheas ri riatanasan teann nódan leth-chonnsachaidh an latha an-diugh, a’ gabhail a-steach pròiseasan FinFET agus 3D NAND.

Dreuchd Fàinne Fòcais ann an Greanadh Plasma

Ann an siostaman gràbhalaidh plasma (leithid reactaran ICP agus CCP), tha am fàinne fòcais suidhichte timcheall oir a’ wafer agus tha pàirt chudromach aige ann an seasmhachd a’ phròiseis agus coileanadh toraidh.

1. Smachd Co-ionannachd Plasma

Bidh an fhàinne fòcais ag obair mar chrìoch dealain is corporra a chuidicheas le bhith a’ riaghladh sgaoileadh dùmhlachd plasma air feadh uachdar a’ wafer.

Prìomh bhuannachdan:

● Co-ionannachd ìre gràbhaladh nas fheàrr
● Caochladh nas lugha bhon mheadhan gu oir
● Ath-aithris pròiseas nas fheàrr

2. Dìoladh Buaidh Oir

Às aonais fàinne fòcais, faodaidh saobhadh còmhdach plasma aig oir a’ wafer leantainn gu gràbhaladh neo-èideadh.

Bidh an fhàinne fòcais ag obair gu h-èifeachdach mar “leudachadh wafer brìgheil”, a’ lughdachadh ana-cainnt co-cheangailte ri oirean leithid:

● Cus-ghràbhadh aig oirean na wafer
● Claonadh meud èiginneach (CD)
● Saobhadh pròifil

3. Trajectory Ion agus Smachd Lùtha

Le bhith a’ toirt buaidh air an raon dealain ionadail, bidh an fhàinne fòcais a’ cuideachadh le bhith a’ daingneachadh ceàrnan tachartais ian agus sgaoileadh lùtha, rud a tha deatamach airson:

● Greanadh co-mheas taobh àrd (HAR)
● Smachd pròifil anisotropic
● Milleadh nas lugha air ballachan-taobh