Orúka Fojusi Aṣọ CVD fún Plasma Etching jẹ́ ohun èlò pàtàkì tí a lè lò nínú àwọn ètò ìfọṣọ semiconductor tó ti pẹ́. A ṣe é pẹ̀lú ìṣètò àpapọ̀ ti ìbòrí substrate + CVD, a ṣe ọjà yìí láti mú kí ìpínkiri plasma dára síi, mú kí ìfọṣọ náà túbọ̀ rọrùn, àti láti mú kí àwọn ohun èlò yàrá pẹ́ síi.
Ní Vet Energy, a lo ìmọ̀ tó jinlẹ̀ nínú ìmọ̀ ẹ̀rọ ìdènà èéfín kẹ́míkà (CVD) àti àwọn ohun èlò seramiki tó ti ní ìlọsíwájú láti fi àwọn òrùka ìfọ́kànsí tó bá àwọn ohun èlò semiconductor òde òní mu, títí kan àwọn ilana FinFET àti 3D NAND.
Ipa ti Oruka Idojukọ ni Pilasima Etching
Nínú àwọn ètò ìfọ́mọ́ra plasma (bíi àwọn ohun èlò ìfọwọ́sowọ́pọ̀ ICP àti CCP), a gbé òrùka ìfọwọ́sowọ́pọ̀ sí ẹ̀gbẹ́ wafer, ó sì ń kó ipa pàtàkì nínú ìdúróṣinṣin ilana àti iṣẹ́ àṣeyọrí.
1. Iṣakoso Iṣọkan Plasma
Òrùka ìfojúsùn náà ń ṣiṣẹ́ gẹ́gẹ́ bí ààlà iná mànàmáná àti ti ara tí ó ń ran lọ́wọ́ láti ṣàkóso ìpínkiri ìwọ̀n plasma lórí ojú wafer náà.
Àwọn àǹfààní pàtàkì:
● Ìṣọ̀kan ìwọ̀n ìṣẹ́lẹ̀ tí a ti mú sunwọ̀n síi
● Ìyàtọ̀ àárín-sí-ẹgbẹ́ dínkù
● Àtúnṣe iṣẹ́ tó dára síi
2. Isanpada Ipa Eti
Láìsí òrùka ìfọ́kànsí, ìyípadà àpò ìfọ́ plasma ní etí wafer lè yọrí sí ìfọ́ tí kò dọ́gba.
Oruka idojukọ naa n ṣiṣẹ daradara bi “itẹsiwaju wafer foju”, o dinku awọn aiṣedeede ti o ni ibatan si eti bii:
● Ìfọ́nrán tó pọ̀ jù ní etí wafer
● Ìyàtọ̀ ìwọ̀n pàtàkì (CD)
● Ìyípadà profaili
3. Ìlànà Ion àti Ìṣàkóso Agbára
Nípa lílo agbára iná mànàmáná agbègbè, òrùka ìfojúsùn ń ran àwọn igun ìṣẹ̀lẹ̀ ion àti ìpínkiri agbára lọ́wọ́ láti dúró ṣinṣin, èyí tí ó ṣe pàtàkì fún:
● Ìfàsẹ́yìn ìrísí gíga (HAR)
● Iṣakoso profaili Anisotropic
● Dín ìbàjẹ́ ẹ̀gbẹ́ ẹ̀gbẹ́ kù
4. Ààbò Yàrá àti Ìdínkù Ẹ̀gbin
Gẹ́gẹ́ bí ohun tí a fi ń rú ẹbọ, òrùka ìfojúsùn náà máa ń gba ìfarahan taara sí plasma àti àwọn ọjà tí a fi ń pamọ́.
Àwọn àǹfààní tó yọrí sí:
● Dín ìfọ́ ògiri yàrá kù
● Ìbàjẹ́ àwọn èérún kékeré
● Awọn iyipo itọju ti o gbooro sii (awọn akoko PM)
