Кільце фокусування з CVD-покриттям

Короткий опис:

Фокусувальне кільце з покриттям CVD для плазмового травлення розроблено для оптимізації розподілу плазми та покращення рівномірності травлення в передових системах травлення. Завдяки міцній підкладці Si або SiC у поєднанні з високочистим покриттям CVD SiC, воно забезпечує чудову стійкість до плазми, наднизький рівень утворення частинок та тривалий термін служби. Це фокусувальне кільце, яке широко використовується в процесах плазмового травлення ICP та CCP, ефективно мінімізує крайові ефекти, стабілізує поведінку іонів та захищає компоненти камери від ерозії та забруднення. Воно є важливим витратним матеріалом для досягнення високого виходу та стабільності процесу в передовому виробництві напівпровідників.

Надіслати нам електронного листа Завантажити як PDF

Деталі продукту

Теги продукту

Фокусувальне кільце CVD-покриття для плазмового травлення є критично важливим витратним компонентом, що використовується в передових системах травлення напівпровідників. Розроблений з композитною структурою підкладки + CVD-покриття, цей продукт призначений для оптимізації розподілу плазми, покращення рівномірності травлення та подовження терміну служби компонентів камери.

У Vet Energy ми використовуємо глибокий досвід у технології хімічного осадження з парової фази (CVD) та передових керамічних матеріалах для створення фокусувальних кілець, які відповідають суворим вимогам сучасних напівпровідникових вузлів, включаючи процеси FinFET та 3D NAND.

Роль фокусувального кільця в плазмовому травленні

У системах плазмового травлення (таких як реактори ICP та CCP) фокусувальне кільце розташоване навколо краю пластини та відіграє життєво важливу роль у стабільності процесу та високих показниках виходу продукту.

1. Контроль однорідності плазми

Фокусувальне кільце діє як електрична та фізична межа, яка допомагає регулювати розподіл густини плазми по поверхні пластини.

Ключові переваги:

● Покращена рівномірність швидкості травлення
● Зменшена варіація від центру до краю
● Підвищена повторюваність процесу

2. Компенсація крайового ефекту

Без фокусувального кільця спотворення плазмової оболонки на краю пластини може призвести до неоднорідного травлення.

Фокусувальне кільце ефективно функціонує як «віртуальне розширення пластини», мінімізуючи аномалії, пов'язані з краями, такі як:

● Надмірне травлення на краях пластини
● Відхилення критичного розміру (CD)
● Спотворення профілю

3. Траєкторія іонів та керування енергією

Впливаючи на локальне електричне поле, фокусувальне кільце допомагає стабілізувати кути падіння іонів та розподіл енергії, що має вирішальне значення для:

● Травлення з високим співвідношенням сторін (HAR)
● Анізотропний контроль профілю
● Зменшення пошкодження боковини