حلقه فوکوس پوشش CVD برای اچینگ پلاسما یک قطعه مصرفی حیاتی است که در سیستمهای اچینگ نیمههادی پیشرفته مورد استفاده قرار میگیرد. این محصول که با ساختار کامپوزیتی زیرلایه + پوشش CVD مهندسی شده است، برای بهینهسازی توزیع پلاسما، بهبود یکنواختی اچینگ و افزایش طول عمر قطعه محفظه طراحی شده است.
در شرکت وت انرژی، ما از تخصص عمیق خود در فناوری رسوب بخار شیمیایی (CVD) و مواد سرامیکی پیشرفته بهره میبریم تا حلقههای فوکوسی ارائه دهیم که الزامات سختگیرانه گرههای نیمههادی مدرن، از جمله فرآیندهای FinFET و NAND سهبعدی را برآورده میکنند.
نقش حلقه فوکوس در حکاکی پلاسما
در سیستمهای اچینگ پلاسما (مانند راکتورهای ICP و CCP)، حلقه فوکوس در اطراف لبه ویفر قرار گرفته و نقش حیاتی در پایداری فرآیند و عملکرد محصول ایفا میکند.
۱. کنترل یکنواختی پلاسما
حلقه فوکوس به عنوان یک مرز الکتریکی و فیزیکی عمل میکند که به تنظیم توزیع چگالی پلاسما در سطح ویفر کمک میکند.
مزایای کلیدی:
● یکنواختی نرخ حکاکی بهبود یافته
● کاهش تغییرپذیری از مرکز تا لبه
● تکرارپذیری فرآیند بهبود یافته
۲. جبران اثر لبه
بدون حلقه فوکوس، اعوجاج غلاف پلاسما در لبه ویفر میتواند منجر به حکاکی غیر یکنواخت شود.
حلقه فوکوس به طور مؤثر به عنوان یک «بسط ویفر مجازی» عمل میکند و ناهنجاریهای مربوط به لبه مانند موارد زیر را به حداقل میرساند:
● حکاکی بیش از حد در لبههای ویفر
● انحراف بُعد بحرانی (CD)
● اعوجاج پروفیل
۳. مسیر یون و کنترل انرژی
با تأثیرگذاری بر میدان الکتریکی محلی، حلقه کانونی به تثبیت زوایای برخورد یونها و توزیع انرژی کمک میکند، که برای موارد زیر بسیار مهم است:
● حکاکی با نسبت ابعاد بالا (HAR)
● کنترل پروفیل ناهمسانگرد
● کاهش آسیب به دیوارههای جانبی
۴. محافظت از محفظه و کاهش آلودگی
حلقه کانونی به عنوان یک جزء فداشونده، تابش مستقیم پلاسما و محصولات جانبی رسوب را جذب میکند.
مزایای حاصل:
● کاهش فرسایش دیواره محفظه
● آلودگی ذرات کمتر
● چرخههای نگهداری طولانی (فواصل PM)
