Portador de grafit per al procés PECVD

Imatge destacada del suport de grafit per al procés PECVD

Descripció breu:

Energia VETLa barca de grafit PECVD per a panells solars és un component avançat dissenyat específicament per a la producció de panells solars d'alt rendiment. Utilitzada en processos de deposició química de vapor millorada per plasma (PECVD), aquesta barca de grafit garanteix una manipulació òptima del material i una deposició uniforme de pel·lícules primes sobre cèl·lules solars. Dissenyada per a la precisió i la durabilitat, proporciona una conductivitat tèrmica superior, una alta resistència a la corrosió i una contaminació mínima, que són essencials per a la producció de panells solars eficients i d'alta qualitat.

Envia'ns un correu electrònic Descarrega com a PDF

Detall del producte

Etiquetes de producte

Energia VETEl suport de grafit del procés PECVD és un consumible d'alta qualitat adaptat al procés PECVD (deposició química de vapor millorada per plasma). Aquest suport de grafit està fet de material de grafit d'alta puresa i alta densitat, amb una excel·lent resistència a altes temperatures, resistència a la corrosió, estabilitat dimensional i altres característiques, que pot proporcionar una plataforma de suport estable per al procés PECVD, per garantir la uniformitat i la planitud de la deposició de pel·lícules primes.

Els suports de grafit per al procés PECVD tenen les següents característiques:

▪ Alta puresa: contingut d'impureses extremadament baix, evitant la contaminació de la pel·lícula i garantint la seva qualitat.

▪ Alta densitat: alta densitat, alta resistència mecànica, capaç de suportar altes temperatures i altes pressions en un entorn PECVD.

▪ Bona estabilitat dimensional: petits canvis dimensionals a alta temperatura, cosa que garanteix l'estabilitat del procés.

▪ Excel·lent conductivitat tèrmica: transfereix la calor de manera eficaç per evitar el sobreescalfament de la oblia.

▪ Forta resistència a la corrosió: capaç de resistir l'erosió per diversos gasos corrosius i plasma.

▪ Servei personalitzat: els portadors de grafit de diferents mides i formes es poden personalitzar segons les necessitats del client.

Material de grafit de SGL:

Paràmetre típic: R6510
Índex	Estàndard de prova	Valor	Unitat
Mida mitjana del gra	ISO 13320	10	μm
Densitat aparent	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porositat oberta	DIN66133	10	%
Mida mitjana dels porus	DIN66133	1.8	μm
Permeabilitat	DIN 51935	0,06	cm²/s
Duresa Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistivitat elèctrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistència a la flexió	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistència a la compressió	DIN 51910	130	MPa
Mòdul de Young	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Expansió tèrmica (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conductivitat tèrmica (20 ℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Està dissenyat específicament per a la fabricació de cèl·lules solars d'alta eficiència, i admet el processament d'oblies de gran mida G12. El disseny optimitzat del portador augmenta significativament el rendiment, permetent taxes de rendiment més elevades i costos de producció més baixos.

Ítem	Tipus	Portador de l'oblea número
Vaixell de grefita PEVCD - La sèrie 156	156-13 vaixell de grefit	144
	156-19 vaixell de grefit	216
	156-21 vaixell de grefit	240
	156-23 vaixell de grafit	308
Vaixell PEVCD Grephite - La sèrie 125	Vaixell de grefit 125-15	196
	Vaixell de grefit 125-19	252
	Vaixell de grafit 125-21	280